[發(fā)明專利]一種防電磁干擾的特殊潔凈室及其污水排放收集裝置

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• 申請日: 2020-02-14
• 公開（公告）號: CN111155794A
• 公開（公告）日: 2020-05-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭杰;鄭杰
• 申請（專利權(quán)）人: 北京中冶設(shè)備研究設(shè)計(jì)總院有限公司
• 主分類號: E04H1/12
• 分類號: E04H1/12;E04B1/92;E03F5/10;E03F5/22;F04B49/02;F04B49/06
• 代理公司: 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350
• 代理人: 李興林

本發(fā)明公開了一種防電磁干擾的特殊潔凈室及其污水排放收集裝置，該潔凈室的外層封閉圍合有電磁防護(hù)層，潔凈室的中部設(shè)置有土建結(jié)構(gòu)板,土建結(jié)構(gòu)板的頂面鋪設(shè)有中間隔斷電磁防護(hù)層，中間隔斷電磁防護(hù)層將潔凈室分為上下兩個單獨(dú)的屏蔽空間，上方的屏蔽空間為科研工作者的日常工作活動空間，下方的屏蔽空間為污水排放收集裝置的存放空間；污水排放收集裝置主要包括儲污箱體、排污泵控制柜和多臺自帶鉸刀型的排污泵。本發(fā)明有效的阻止了電磁波通過排污管道進(jìn)入到潔凈室內(nèi)部，為未來大型潔凈室規(guī)劃設(shè)計(jì)中污水排放問題提供解決思路，另外，成套污水排放裝置的使用也提升了系統(tǒng)排水穩(wěn)定性、縮短工程進(jìn)度及延長了工程使用壽命。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及污水排放收集領(lǐng)域，尤其涉及一種防電磁干擾的特殊潔凈室及其污水排放收集裝置。

背景技術(shù)

在化學(xué)、生物化學(xué)、醫(yī)療和制藥等領(lǐng)域的潔凈室，當(dāng)要求有具備有防外界電磁干擾功能。目前，為了避免外界的電磁波干擾潔凈室，常把衛(wèi)生間設(shè)置在潔凈室外部或者將污水暫存在潔凈室內(nèi)，這樣非常不便于科研工作者的日常工作。

根據(jù)電磁波傳輸特性，電磁波在生活污水中傳輸時必然會造成嚴(yán)重的衰減，然而由于污水間斷排放的特點(diǎn)使得污水排放管線很容易成為電磁波傳遞的通道，基于此，生活污水等此類含有較多雜質(zhì)水的管線進(jìn)出此類特殊潔凈室便成為設(shè)計(jì)關(guān)鍵點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種防電磁干擾的特殊潔凈室及其污水排放收集裝置，解決避免電磁波通過排污管道進(jìn)入到潔凈室內(nèi)部的問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

本發(fā)明一種防電磁干擾的特殊潔凈室，包括潔凈室，所述潔凈室的外層封閉圍合有電磁防護(hù)層，所述潔凈室的中部設(shè)置有土建結(jié)構(gòu)板,所述土建結(jié)構(gòu)板的頂面鋪設(shè)有中間隔斷電磁防護(hù)層，中間隔斷電磁防護(hù)層將所述潔凈室分為上下兩個單獨(dú)的屏蔽空間，上方的屏蔽空間為科研工作者的日常工作活動空間，下方的屏蔽空間為污水排放收集裝置的存放空間。

一種用于上述防電磁干擾的特殊潔凈室的污水排放收集裝置，包括儲污箱體、排污泵控制柜和多臺自帶鉸刀型的排污泵；所述儲污箱體的外壁封閉圍合有電磁防護(hù)層；

所述儲污箱體的頂部設(shè)置有污水接納防護(hù)管道，所述污水接納防護(hù)管道的上端口設(shè)置有污水接納預(yù)留法蘭接口，所述污水接納防護(hù)管道的下端口延伸至所述儲污箱體的內(nèi)部；

所述污水接納預(yù)留法蘭接口通過螺栓組件與潔凈室排污防護(hù)管道的接口安裝連通，所述潔凈室排污防護(hù)管道預(yù)設(shè)在所述土建結(jié)構(gòu)板上，所述污水接納預(yù)留法蘭接口與所述潔凈室排污防護(hù)管道的接口之間設(shè)置有導(dǎo)電襯墊；

各所述排污泵均位于所述儲污箱體的內(nèi)部，并且各所述排污泵的排污口通過管道均與設(shè)置在所述儲污箱體內(nèi)部的排污總管道連通，所述排污總管道的排污口貫穿所述儲污箱體上部的側(cè)壁后延伸至外側(cè)；

所述排污泵控制柜位于所述儲污箱體的外部并通過導(dǎo)線與各所述排污泵電連接。

進(jìn)一步的，所述儲污箱體內(nèi)部設(shè)置有液位探測傳感器，所述液位探測傳感器通過導(dǎo)線與所述排污泵控制柜電連接。

進(jìn)一步的，所述排污泵的數(shù)量設(shè)置為兩個，所述液位探測傳感器設(shè)置有三個液位值，分別為H₀、H₁和H₂，所述H₀、H₁和H₂的液位設(shè)定值依次升高，并且所述H₀為停泵液位值；

所述污水接納防護(hù)管道的下端口低于所述H₀，并且距離所述H₀的高度差為ΔH，所述ΔH不小于0.5m；

當(dāng)所述儲污箱體中的污水液面到達(dá)H₁時，單臺所述排污泵工作或者兩臺所述排污泵交替單獨(dú)工作，當(dāng)所述儲污箱體中的污水液面到達(dá)H₂時，兩臺所述排污泵同時工作。