[發明專利]減反射涂層在審
| 申請號： | 202010092137.X | 申請日： | 2020-02-14 |
| 公開（公告）號： | CN111580194A | 公開（公告）日： | 2020-08-25 |
| 發明（設計）人： | 王德巖;劉盛 | 申請（專利權）人： | 羅門哈斯電子材料有限責任公司 |
| 主分類號： | G02B1/113 | 分類號： | G02B1/113;G09F9/00 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 陳哲鋒;錢文宇 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 反射 涂層 | ||
1.一種用于形成減反射膜的可固化組合物，所述組合物包含：
(a)中空二氧化硅納米顆粒；
(b)具有反應性基團的硅氧烷粘合劑；
(c)至少一種具有反應性基團的附加材料；
(d)引發劑；以及
(e)溶劑；
其中：
(i)所述硅氧烷粘合劑以(硅氧烷粘合劑+具有反應性基團的附加材料)的總重量的至少50重量％的量存在；并且
(ii)中空二氧化硅納米顆粒與(硅氧烷粘合劑+具有反應性基團的附加材料)的總和的重量比是不大于1.75至1。
2.如權利要求1所述的可固化組合物，其中，所述硅氧烷粘合劑(b)選自由以下組成的組：硅氧烷聚合物、倍半硅氧烷、及其組合。
3.如權利要求1所述的可固化組合物，其中，所述附加材料(c)選自由以下組成的組：單體、低聚物、表面活性劑、及其組合。
4.如權利要求1所述的可固化組合物，其中，所述附加材料(c)包含氟化表面活性劑。
5.如權利要求1所述的可固化組合物，其中，所述附加材料(c)包含氟化表面活性劑和低聚物。
6.如權利要求3所述的可固化組合物，其中，所述反應性基團是(甲基)丙烯酸酯基團。
7.如權利要求1所述的可固化組合物，其中，所述引發劑(d)選自由以下組成的組：光引發劑、熱引發劑、及其組合。
8.如權利要求1所述的可固化組合物，其中，所述硅氧烷粘合劑以(硅氧烷粘合劑+具有反應性基團的附加材料)的總重量的至少60重量％的量存在。
9.如權利要求1所述的可固化組合物，其中，中空二氧化硅納米顆粒與(硅氧烷粘合劑+具有反應性基團的附加材料)的總和的重量比是不大于1.50至1。
10.一種減反射膜，其通過以下方法制造：
(1)將上述可固化組合物涂覆到基底上以形成未固化的膜；
(2)將所述未固化的膜干燥以形成干燥的未固化的膜；
(3)將所述干燥的未固化的膜暴露于UV輻射和熱之一或二者以形成所述減反射膜。
11.如權利要求10所述的減反射膜，其中，所述干燥的未固化的膜依次暴露于UV輻射和熱。
12.一種電子裝置，所述電子裝置在其上具有如權利要求10所述的減反射膜。
13.一種用于形成減反射膜的可固化組合物，所述組合物包含：
(a)中空二氧化硅納米顆粒；
(b)具有反應性基團的硅氧烷粘合劑；
(c)至少一種具有反應性基團的附加材料；
(d)引發劑；以及
(e)溶劑；
其中在所述組合物中不存在不含硅的粘合劑。
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