[發(fā)明專利]RCS測量背景對消的測試方法和室內RCS測試系統(tǒng)

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• 申請日: 2020-02-14
• 公開（公告）號: CN111273247A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發(fā)明（設計）人: 楊景軒;侯鑫;劉拓
• 申請（專利權）人: 北京環(huán)境特性研究所
• 主分類號: G01S7/41
• 分類號: G01S7/41;G01S7/02
• 代理公司: 北京格允知識產權代理有限公司 11609
• 代理人: 周嬌嬌

本發(fā)明涉及一種RCS測量背景對消的測試方法、RCS測量背景對消裝置和室內RCS測試系統(tǒng)，其中方法包括：使用室內RCS測試系統(tǒng)測量目標回波信號，其中室內RCS測試系統(tǒng)包括金屬屏蔽殼體，以及置于金屬屏蔽殼體內的雷達收發(fā)系統(tǒng)、目標和金屬支架；測量移除目標和金屬支架后的背景回波信號；根據所述目標回波信號和背景回波信號進行矢量相消，得到背景對消后的回波信號，并基于該回波信號得到目標的RCS值。本發(fā)明通過移除金屬支架后的空暗室背景數據來進行背景對消，在保證不引入支架散射影響的同時，消除天線直漏、墻壁、地面等處的固定雜波對測試的影響，提高了RCS測試中背景對消的效果，提升了測試準確性。

技術領域

本發(fā)明涉及RCS測試技術領域，尤其涉及一種RCS測量背景對消的測試方法、RCS測量背景對消裝置和室內RCS測試系統(tǒng)。

背景技術

雷達散射截面(RCS)作為一個重要的指標越來越受到人們的重視，RCS的測試方法也隨著技術的發(fā)展而愈發(fā)準確、可靠、高效。RCS的測量方法按受場地條件可以分為室內測量和室外測量兩個方向。其中室內測量往往受限于空間而需要利用緊縮場達到RCS測試所需的遠場條件。室內場最大的優(yōu)勢就是電磁環(huán)境穩(wěn)定，不易受到外部因素的干擾，而室內場的雜波多以固定雜波為主，其來源主要是饋源直漏、反射面和墻面的反射波，因此可以通過背景對消的手段降低測試場的背景水平。

室內場的實際測量中，常常使用的支撐機構主要有泡沫支架與金屬支架兩種。泡沫支架本體散射量值較低，而且目標架設后對本體散射影響較小，因此可以進行背景對消；而金屬支架主要由二維轉頂和低散射金屬支架本體構成，被測目標底部留有接口，可以將二維轉頂深入目標內部，進行緊固。由于拆除目標后金屬支架會露出二維轉頂，其散射很高，與放置目標后的散射情況相差甚遠，不具備背景對消的意義。傳統(tǒng)的RCS測試過程中，在使用金屬支架時，并不進行背景對消，這樣就使得除了支撐機構以外的固定雜波難以濾除。因此，亟待提供一種RCS測試中的金屬支架背景對消方法，來達到將背景對消應用于金屬支架測試的要求。

發(fā)明內容

本發(fā)明要解決的技術問題在于，針對現有技術中的至少一部分技術問題，提供一種RCS測量背景對消的測試方法、RCS測量背景對消裝置和室內RCS測試系統(tǒng)。

為了解決上述技術問題，本發(fā)明第一方面提供了一種RCS測量背景對消的測試方法，該方法包括以下步驟：

S1、使用室內RCS測試系統(tǒng)測量目標回波信號，其中室內RCS測試系統(tǒng)包括金屬屏蔽殼體，以及置于金屬屏蔽殼體內的雷達收發(fā)系統(tǒng)、目標和金屬支架；

S2、測量移除目標和金屬支架后的背景回波信號；

S3、根據所述目標回波信號和背景回波信號進行矢量相消，得到背景對消后的回波信號，并基于該回波信號得到目標的RCS值。

在根據本發(fā)明所述的RCS測量背景對消的測試方法中，優(yōu)選地，所述金屬支架包括支架本體和二維轉頂；所述二維轉頂插入目標內部進行緊固。

在根據本發(fā)明所述的RCS測量背景對消的測試方法中，優(yōu)選地，所述金屬屏蔽殼體內部覆蓋有吸波材料。

在根據本發(fā)明所述的RCS測量背景對消的測試方法中，優(yōu)選地，所述步驟S3中根據所述目標回波信號和背景回波信號進行矢量相消，具體為計算背景對消后的回波信號A_target：

A_target＝A_meas-A_ER；

其中，A_meas為目標回波信號，A_ER為背景回波信號。

在根據本發(fā)明所述的RCS測量背景對消的測試方法中，優(yōu)選地，所述雷達收發(fā)系統(tǒng)包括：射頻系統(tǒng)、發(fā)射天線、接收天線和緊縮場反射面。

本發(fā)明第二方面，提供了一種RCS測量背景對消裝置，包括：