[發(fā)明專利]蝕刻液、添加劑及金屬布線的制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010090863.8 | 申請日： | 2020-02-13 |
| 公開（公告）號： | CN111155091A | 公開（公告）日： | 2020-05-15 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 吳豪旭;張月紅 | 申請（專利權(quán)）人： | TCL華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/18 | 分類號： | C23F1/18;C23F1/26;C23F1/02 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人： | 遠明 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 蝕刻 添加劑 金屬 布線 制作方法 | ||
1.一種蝕刻液，其特征在于，所述蝕刻液的主要成分包括占所述蝕刻液總重量的5～30％的過氧化氫、0.1～5％的過氧化氫穩(wěn)定劑、5～25％的螯合劑、0.1～1％的表面活性劑和0.1～5％的無機酸氧化劑，余量為去離子水。
2.如權(quán)利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，所述過氧化氫穩(wěn)定劑包括苯基脲、聚丙烯酰胺和無機鹽中的至少一種。
3.如權(quán)利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，所述螯合劑包括檸檬酸、酒石酸、丙二酸、苯甲酸、二乙醇酸、馬來酸、羥基丁酸、乳酸、蘋果酸、琥珀酸、異丙醇胺和丙二醇中的至少一種。
4.如權(quán)利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，所述表面活性劑為醇胺類物質(zhì)；所述醇胺類物質(zhì)包括聚乙二醇和聚丙烯酸胺中的任意一種或兩種。
5.如權(quán)利要求1所述的蝕刻液，其特征在于，所述無機酸氧化劑包括硝酸、磷酸、鹽酸和硫酸中的至少一種。
6.一種添加劑，在反復(fù)使用如權(quán)利要求1至5任一項所述的蝕刻液時添加至所述蝕刻液中，其特征在于，所述添加劑的主要成分包括占所述添加劑總重量的5～20％的有機酸、0.3～3％的蝕刻抑制劑，余量為去離子水；
其中，所述有機酸包括檸檬酸、丙二酸、蘋果酸和琥珀酸中的至少一種；所述蝕刻抑制劑為苯并唑類化合物。
7.一種金屬布線的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
提供覆蓋有金屬層的基板；
在所述金屬層遠離所述基板的一側(cè)部分設(shè)置防蝕刻涂層；
采用如權(quán)利要求1至5任一項所述的蝕刻液對所述金屬層中未被所述防蝕刻涂層覆蓋的部分進行蝕刻，形成金屬布線。
8.如權(quán)利要求7所述的金屬布線的制作方法，其特征在于，蝕刻掉的金屬層以金屬離子的形式存在于所述蝕刻液中；
所述制作方法還包括以下步驟：
檢測所述蝕刻液中所述金屬離子的濃度；
當所述金屬離子濃度超過預(yù)設(shè)濃度時，向含有所述金屬離子的所述蝕刻液中加入添加劑，以使所述蝕刻液反復(fù)使用；
所述添加劑的主要成分包括占所述添加劑總重量的5～20％的有機酸、0.3～3％的蝕刻抑制劑，余量為去離子水；其中，所述有機酸包括檸檬酸、丙二酸、蘋果酸和琥珀酸中的至少一種；所述蝕刻抑制劑為苯并唑類化合物。
9.如權(quán)利要求8所述的金屬布線的制作方法，其特征在于，所述向含有所述金屬離子的所述蝕刻液中加入添加劑，包括以下步驟：
所述蝕刻液中的所述金屬離子的濃度每升高1000ppm時，向含有所述金屬離子的所述蝕刻液中加入占所述蝕刻液總重量的0.1～2％的添加劑。
10.如權(quán)利要求7所述的金屬布線的制作方法，其特征在于，所述金屬層包括銅金屬層或銅鉬金屬層。
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