[發明專利]液體填充襯套組件

在審

• 申請號: 202010090112.6
• 申請日: 2020-02-13
• 公開（公告）號: CN111577818A
• 公開（公告）日: 2020-08-25
• 發明（設計）人: 伊藤優步;井上敏郎
• 申請（專利權）人: 本田技研工業株式會社
• 主分類號: F16F13/26
• 分類號: F16F13/26;F16F13/30
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 張美芹;劉久亮

1.一種液體填充襯套組件，所述液體填充襯套組件包括：

內管狀構件，所述內管狀構件具有中心軸線；

外管狀構件，所述外管狀構件以同軸關系圍繞所述內管狀構件，在所述內管狀構件和所述外管狀構件之間限定有環形空間；以及

管狀彈性構件，所述管狀彈性構件插設并連接在所述內管狀構件和所述外管狀構件之間，并限定沿周向以規則間隔按順序布置的第一至第四液體室，

所述管狀彈性構件限定使第一液體室與第三液體室連通的第一連通通道、使第二液體室與第四液體室連通的第二連通通道、使所述第一液體室與所述第二液體室連通的第三連通通道以及使所述第三液體室和所述第四液體室連通的第四連通通道，

其中，所述第一液體室、所述第二液體室、所述第三液體室、所述第四液體室、所述第一連通通道、所述第二連通通道、所述第三連通通道和所述第四連通通道填充有粘性流體，

其中，這些液體室構造成使得當所述內管狀構件相對于所述外管狀構件沿所述中心軸線移動時，所述第一液體室的立方容積和所述第二液體室的立方容積以相互互補的方式變化，并且所述第三液體室的立方容積和所述第四液體室的立方容積以相互互補的方式變化，

當所述內管狀構件相對于所述外管狀構件繞所述中心軸線旋轉時，所述第一液體室的立方容積和所述第二液體室的立方容積以相互互補的方式變化，并且所述第三液體室的立方容積和所述第四液體室的立方容積以相互互補的方式變化，

當所述內管狀構件相對于所述外管狀構件沿所述第一液體室和所述第三液體室的布置方向移動時，所述第一液體室的立方容積和所述第三液體室的立方容積以相互互補的方式變化，并且

當所述內管狀構件相對于所述外管狀構件沿所述第二液體室和所述第四液體室的布置方向移動時，所述第二液體室的立方容積和所述第四液體室的立方容積以相互互補的方式變化。

2.根據權利要求1所述的液體填充襯套組件，其中，所述管狀彈性構件設置有：第一徑向壁至第四徑向壁，所述第一徑向壁至所述第四徑向壁相對于所述中心軸線沿徑向方向延伸并且繞所述中心軸線依次布置；四個第一端壁部，所述第一端壁部附接至所述徑向壁的相應的第一軸向端；以及四個第二端壁部，所述第二端壁部附接至所述徑向壁的相應的第二軸向端，使得所述第一液體室至所述第四液體室由所述第一徑向壁至所述第四徑向壁、所述四個第一端壁部以及所述四個第二端壁部限定。

3.根據權利要求2所述的液體填充襯套組件，其中，在限定所述第一液體室的第一軸向端的所述第一端壁部的徑向內部和限定所述第二液體室的第二軸向端的所述第二端壁部的徑向內部設置有高彎曲剛度部分，并且在限定所述第一液體室的第二軸向端的所述第二端壁部的徑向外部和限定所述第二液體室的第一軸向端的所述第一端壁部的徑向外部設置有另一高彎曲剛度部分。

4.根據權利要求3所述的液體填充襯套組件，其中，所述高彎曲剛度部分包括設置在每個相應端壁部中的加強板。

5.根據權利要求2所述的液體填充襯套組件，其中，在所述第一徑向壁和第三徑向壁的徑向內部中設置有高彎曲剛度部分，并且在第二徑向壁和所述第四徑向外壁的徑向外部中設置有另一高彎曲剛度部分。

6.根據權利要求5所述的液體填充襯套組件，其中，所述高彎曲剛度部分包括設置在每個相應徑向壁中的加強板。

7.根據權利要求1所述的液體填充襯套組件，其中，所述外管狀構件包括：線圈，所述線圈與所述內管狀構件以同軸關系設置；以及磁軛，所述磁軛具有位于所述線圈內部的軸向間隙；并且，所述粘性流體由磁性流體組成，該磁性流體的粘度在磁場作用下增加，所述連通通道中的至少一個連通通道延伸穿過所述軸向間隙。

8.根據權利要求7所述的液體填充襯套組件，其中，所述外管狀構件還包括通道形成構件，所述通道形成構件由具有低磁導率的材料制成并且從該軸向間隙的徑向內側包圍所述軸向間隙以與所述線圈和所述磁軛協作限定延伸穿過所述軸向間隙的所述連通通道中的所述至少一個連通通道。

9.根據權利要求7所述的液體填充襯套組件，其中，所述線圈包括沿所述中心軸線以相互間隔開的關系布置的第一線圈、第二線圈和第三線圈，并且所述磁軛限定分別與所述第一線圈至所述第三線圈相對應的用作磁隙的第一軸向間隙至第三軸向間隙，并且

其中，所述第一連通通道穿過所述第一軸向間隙，所述第二連通通道穿過第二軸向間隙，并且所述第三連通通道穿過所述第三軸向間隙。