[發明專利]影像傳感器結構及其制造方法

在審

• 申請號: 202010089928.7
• 申請日: 2020-02-13
• 公開（公告）號: CN113130517A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發明（設計）人: 陳俊良;黃晉德;李世平
• 申請（專利權）人: 力晶積成電子制造股份有限公司
• 主分類號: H01L27/146
• 分類號: H01L27/146
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種影像傳感器結構，其特征在于，包括：

基底；

感光元件，位于所述基底中；

濾光結構，位于所述感光元件上方，且包括主濾光層與第一輔助濾光層；以及

隔離墻，圍繞所述濾光結構的側壁，其中所述濾光結構的折射率大于所述隔離墻的折射率。

2.如權利要求1所述的影像傳感器結構，其中所述主濾光層包括彩色濾光層。

3.如權利要求1所述的影像傳感器結構，其中所述濾光結構還包括：

第二輔助濾光層，其中所述主濾光層、第一輔助濾光層與所述第二輔助濾光層堆疊在所述基底上。

4.如權利要求3所述的影像傳感器結構，其中所述第一輔助濾光層為紅外線截止濾光層與紫外線截止濾光層中的一者，且所述第二輔助濾光層為所述紅外線截止濾光層與所述紫外線截止濾光層中的另一者。

5.如權利要求1所述的影像傳感器結構，其中所述隔離墻的材料包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、低介電常數材料或其組合。

6.如權利要求1所述的影像傳感器結構，其中在所述隔離墻中具有孔洞。

7.如權利要求1所述的影像傳感器結構，還包括：

隔離結構，位于所述基底中。

8.如權利要求7所述的影像傳感器結構，其中所述隔離墻連接至所述隔離結構。

9.如權利要求7所述的影像傳感器結構，其中所述基底的折射率大于所述隔離結構的折射率。

10.如權利要求7所述的影像傳感器結構，其中所述隔離結構貫穿所述基底。

11.如權利要求1所述的影像傳感器結構，還包括：

界面層，位于所述濾光結構與所述基底之間。

12.如權利要求1所述的影像傳感器結構，還包括：

微透鏡層，位于所述濾光結構上。

13.如權利要求1所述的影像傳感器結構，其中所述影像傳感器結構包括背照式影像傳感器結構或前照式影像傳感器結構。

14.一種影像傳感器結構的制造方法，包括：

在基底中形成感光元件；

在所述感光元件上方形成濾光結構，其中所述濾光結構包括主濾光層與第一輔助濾光層；以及

形成圍繞所述濾光結構的側壁的隔離墻，其中所述濾光結構的折射率大于所述隔離墻的折射率。

15.如權利要求14所述的影像傳感器結構的制造方法，其中所述濾光結構的形成方法包括：

在所述基底上形成濾光結構層，其中所述濾光結構層包括主濾光材料層與第一輔助濾光材料層；

在所述濾光結構層上形成圖案化掩模層；以及

以所述圖案化掩模層為掩模，移除部分所述濾光結構層，而形成所述濾光結構與環繞所述濾光結構的開口。

16.如權利要求15所述的影像傳感器結構的制造方法，其中濾光結構層還包括：

第二輔助濾光材料層，其中所述主濾光材料層、所述第一輔助濾光材料層與所述第二輔助濾光材料層堆疊在所述基底上。

17.如權利要求15所述的影像傳感器結構的制造方法，其中所述隔離墻封住所述開口。

18.如權利要求15所述的影像傳感器結構的制造方法，其中所述隔離墻的形成方法包括：

形成填入所述開口的隔離材料層；以及

移除位于所述開口外部的所述隔離材料層。