[發(fā)明專利]一種磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010088373.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111244262A | 公開(公告)日: | 2020-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉明;胡忠強(qiáng);關(guān)蒙萌;王立乾;朱家訓(xùn) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 珠海多創(chuàng)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L41/09 | 分類號(hào): | H01L41/09;H01L41/12;H01L41/37;H01L41/47;G01R33/02 |
| 代理公司: | 廣東朗乾律師事務(wù)所 44291 | 代理人: | 楊煥軍 |
| 地址: | 519000 廣東省珠海市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 磁場(chǎng) 調(diào)節(jié) 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件,其特征在于,包括:
復(fù)合磁性元件對(duì),所述復(fù)合磁性元件對(duì)中的復(fù)合磁性元件間隔設(shè)置,所述復(fù)合磁性元件包括鐵磁層和壓電層,所述壓電層與外部電壓源電連接。
2.如權(quán)利要求1所述的磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件,其特征在于:所述復(fù)合磁性元件的橫截面形狀為方形。
3.如權(quán)利要求1所述的磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件,其特征在于:所述復(fù)合磁性元件之間的距離小于復(fù)合磁性元件的長(zhǎng)度的二分之一。
4.如權(quán)利要求1所述的磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件,其特征在于:所述鐵磁層由磁致伸縮系數(shù)≥50ppm且靜態(tài)磁導(dǎo)率≥10000的鐵磁材料形成。
5.如權(quán)利要求4所述的磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件,其特征在于:所述鐵磁材料為FeCoB或FeGaB或FeCoBSi或FeCoB。
6.如權(quán)利要求1所述的磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件,其特征在于:所述壓電層由電致伸縮系數(shù)≥500ppm的壓電材料形成。
7.如權(quán)利要求6所述的磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件,其特征在于:所述壓電材料為PZT或PZN-PT或PMN-PT或AlN或HfO2。
8.如權(quán)利要求1所述的磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件,其特征在于:所述復(fù)合磁性元件間隔對(duì)稱設(shè)置于一基底上,其包括依次設(shè)置于所述基底上的下電極、復(fù)合磁性層、絕緣層及上電極,所述復(fù)合磁性層包括壓電層和位于所述壓電層上的鐵磁層,所述下電極和所述上電極用于實(shí)現(xiàn)所述復(fù)合磁性層中壓電層與外部電壓源的電連接。
9.如權(quán)利要求1所述的磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件,其特征在于:所述復(fù)合磁性元件的厚度為500nm~5000nm。
10.如權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的磁場(chǎng)調(diào)節(jié)器件的制備方法,其特征在于,步驟如下:
提供基底;
在所述基底上沉積第一導(dǎo)電層;
在所述第一導(dǎo)電層上沉積復(fù)合磁性層;
在所述復(fù)合磁性層上沉積絕緣層;
在所述在絕緣層及復(fù)合磁性層的外露表面沉積第二導(dǎo)電層,將所述第一導(dǎo)電層及所述第二導(dǎo)電層與外部電壓源電連接。
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