[發明專利]液體處理裝置在審
| 申請號: | 202010088278.4 | 申請日: | 2020-02-12 |
| 公開(公告)號: | CN111592070A | 公開(公告)日: | 2020-08-28 |
| 發明(設計)人: | 山地博之;鴻丸翔平;杉森文亮;平山千春 | 申請(專利權)人: | 夏普株式會社 |
| 主分類號: | C02F1/30 | 分類號: | C02F1/30;C02F1/50 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334 | 代理人: | 王娟 |
| 地址: | 日本國大*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液體 處理 裝置 | ||
1.一種液體處理裝置,其特征在于,包括:
電子發射元件,其具有相對于液體而相對配置的電極;
第一電壓施加部,其通過向所述電子發射元件施加驅動電壓來從所述電極發射電子;以及
第二電壓施加部,其在所述電極與所述液體之間施加恢復電壓。
2.根據權利要求1所述的液體處理裝置,其特征在于,通過控制所述驅動電壓來控制添加在所述液體中的物質。
3.根據權利要求1或2所述的液體處理裝置,其特征在于,所述驅動電壓值為20伏以下。
4.根據權利要求1或2所述的液體處理裝置,其特征在于,所述驅動電壓值為22伏以上。
5.根據權利要求1至4中的任一項所述的液體處理裝置,其特征在于,還包括:
電流測量部,其測量流經所述液體的電流;
計算部,其基于所述電流測量部的測量結果,計算流經所述液體的電荷量即恢復電荷量;以及
控制部,控制所述恢復電荷量。
6.根據權利要求5所述的液體處理裝置,其特征在于,所述控制部通過控制所述恢復電荷量來控制添加在所述液體中的物質的濃度。
7.根據權利要求5或6所述的液體處理裝置,其特征在于,所述控制部基于由所述計算部計算出的所述恢復電荷量與所述恢復電荷量的目標值之間的比較結果,控制被添加在所述液體中的物質的濃度。
8.根據權利要求5至7中的任一項所述的液體處理裝置,其特征在于,所述控制部通過控制針對所述電子發射元件的所述驅動電壓的施加時間來控制所述恢復電荷量。
9.根據權利要求5至7中的任一項所述的液體處理裝置,其特征在于,所述控制部通過控制所述恢復電壓來控制所述恢復電荷量。
10.根據權利要求5至7中的任一項所述的液體處理裝置,其特征在于,
所述驅動電壓是交流電壓,
所述控制部通過控制所述驅動電壓的占空比來控制所述恢復電荷量。
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