[發明專利]一種3D打印陶瓷膏料及其制備方法有效
| 申請號: | 202010087583.1 | 申請日: | 2020-02-12 |
| 公開(公告)號: | CN111253149B | 公開(公告)日: | 2022-02-01 |
| 發明(設計)人: | 肖坦;陸青;肖華軍;顧成言 | 申請(專利權)人: | 深圳市光韻達增材制造研究院;深圳協同創新高科技發展有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/10 | 分類號: | C04B35/10;C04B35/626;B33Y70/10 |
| 代理公司: | 深圳市洪荒之力專利代理有限公司 44541 | 代理人: | 姜書新 |
| 地址: | 518118 廣東省深圳市坪山區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 打印 陶瓷 料及 制備 方法 | ||
本發明適用于材料技術領域,提供了一種3D打印陶瓷膏料及其制備方法,該方法包括:采用分散劑對Al2O3陶瓷粉體進行球磨預處理,得到預處理后的Al2O3陶瓷粉體;將樹脂、分散劑、消泡劑、增塑劑和光引發劑加入反應容器中進行離心攪拌,得到樹脂混合液;將預處理后的Al2O3陶瓷粉體、增稠劑加入樹脂混合液中,進行分段式離心攪拌即得。采用直接配制的方式配制成3D打印陶瓷膏料,操作方式簡單,不需要通過漿料轉化的方式制備膏料,體系固含量不受漿料固含量的制約,且通過兩段式離心攪拌工藝對物料進行攪拌,物料混合均勻效果好,體系的固含量可達到80%~87.5%,應用于3D打印、脫脂燒結時的收縮小,成品力學性能優良。
技術領域
本發明屬于材料技術領域,尤其涉及一種3D打印陶瓷膏料及其制備方法。
背景技術
近年來,3D打印行業借助國家對制造業的重視和大力投入的新風,得到了飛速的發展。現今國內3D打印行業熱點居高不下,新材料和新裝備在不斷被研發出來的同時,3D打印技術在應用行業中都反響強烈,為傳統制造業,打開了一扇新的大門。其中,陶瓷3D打印技術作為相對較新的一種打印技術,由最初的小規模群體,發展至今,已經成為3D打印技術的一個重要分支,具有積極的研究意義和良好的前景,因此受到了廣大3D打印從業者和終端應用客戶的青睞。
陶瓷3D打印材料分為漿料和膏料兩種體系,兩種體系各有優缺點,其中,膏料體系相比漿料體系,粘度要更大,更難分散均勻?,F有的膏料制備工藝是利用體系升溫粘度降低的方式,并進行球磨以促使體系更加均勻。另外,也有先制備漿料,在通過蒸發溶劑將漿料轉化為膏料的方式來制備膏料。然而,現有的陶瓷膏料制備工藝,操作都相對復雜,成本較高,而且膏料體系的固含量和均一性仍未達到用戶的需求。
發明內容
本發明實施例提供一種3D打印陶瓷膏料的制備方法,旨在解決現有的陶瓷膏料制備工藝,操作都相對復雜,成本較高,而且膏料體系的固含量和均一性仍未達到用戶的需求的問題。
本發明實施例是這樣實現的,一種3D打印陶瓷膏料的制備方法,按質量百分比計,所述3D打印陶瓷膏料包括如下原料:80%~87.5%的Al2O3陶瓷粉體、10%~17%的樹脂、0.4%~4.375%的分散劑、0.1~1%的消泡劑、1.25%~6%的增塑劑、0.015%~0.1%的光引發劑、0.5%~4%的增稠劑;
所述制備方法包括如下步驟:
按照上述配方稱取各組分備用;采用分散劑對Al2O3陶瓷粉體進行球磨預處理,得到預處理后的Al2O3陶瓷粉體;將樹脂、分散劑、消泡劑、增塑劑和光引發劑加入反應容器中進行離心攪拌,得到樹脂混合液,其中離心轉速600~1000r/min,時間20~60s;將所述預處理后的Al2O3陶瓷粉體、增稠劑加入所述樹脂混合液中,進行兩段式離心攪拌,得到所述3D打印陶瓷膏料。
本發明實施例還提供一種3D打印陶瓷膏料,該3D打印陶瓷膏料由上述3D打印陶瓷膏料的制備方法制備得到。
本發明實施例提供的3D打印陶瓷膏料的制備方法,采用上述科學合理的原料配方復配,并采用直接配制的方式配制成3D打印陶瓷膏料,操作方式簡單,不需要通過漿料轉化的方式制備膏料,體系固含量不受漿料固含量的制約,并且通過兩段時的離心攪拌工藝對物料進行攪拌,可實現物料的均勻混合,混合物料體系的固含量可達到80%~87.5%,且均勻性好,該膏料應用于3D打印,其脫脂燒結時的收縮小,成品力學性能優良。
具體實施方式
為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合具體實施例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明,并不用于限定本發明。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市光韻達增材制造研究院;深圳協同創新高科技發展有限公司,未經深圳市光韻達增材制造研究院;深圳協同創新高科技發展有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010087583.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:光學測定裝置
- 下一篇:幀序列處理方法、系統和存儲介質





