[發明專利]一種鎘鋅硅硫晶體及其制備方法與用途有效
| 申請號: | 202010087177.5 | 申請日: | 2020-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN111188092B | 公開(公告)日: | 2021-10-01 |
| 發明(設計)人: | 武奎;楊亞 | 申請(專利權)人: | 河北大學 |
| 主分類號: | C30B29/46 | 分類號: | C30B29/46;C30B1/10;G02F1/355;C01B33/00 |
| 代理公司: | 石家莊國域專利商標事務所有限公司 13112 | 代理人: | 黃慧慧 |
| 地址: | 071002 河北*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 鎘鋅硅硫 晶體 及其 制備 方法 用途 | ||
1.一種鎘鋅硅硫晶體,其特征在于,化學式為Cd3ZnSiS6,分子量為623.02,其為黃色透明的非中心對稱結構單晶,屬于單斜晶系,空間群為Cc,晶胞參數為a=12.136?,b=7.010?,c=12.105?,α=γ=90°,β=109.780°,Z=4,單胞體積為V=969.1 ?3;該晶體以[(Cd/Zn)S4]、[CdS4]和[SiS4]基團組成結構基元。
2.根據權利要求1所述的鎘鋅硅硫晶體,其特征在于,該晶體為中遠紅外非線性光學晶體,帶隙為2.74 eV。
3.權利要求1所述的鎘鋅硅硫晶體的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
(a)將摩爾比為2~3∶1∶1的CdS、ZnS和SiS2原料混合均勻,放入石墨坩堝中,再將石墨坩堝裝入反應容器中,并在真空度為10-5~10-1 Pa的條件下抽真空后密封;
(b)將密封的反應容器置于高溫焙燒爐中升溫至400~700 ℃,保溫7~15 h;再升溫至850~1000 ℃,保溫70~110 h;之后,冷卻降至室溫,即得鎘鋅硅硫晶體。
4.根據權利要求3所述的鎘鋅硅硫晶體的制備方法,其特征在于,步驟(a)中,在水、氧含量分別為0.01~0.2 ppm的氣密容器內稱量CdS、ZnS和SiS2原料。
5.根據權利要求3所述的鎘鋅硅硫晶體的制備方法,其特征在于,步驟(b)中,以20~40℃/h的升溫速率升溫至400~700 ℃;以25~40 ℃/h的升溫速率升溫至850~1000 ℃;以2~7℃/h的速率冷卻降至室溫。
6.權利要求1所述的鎘鋅硅硫晶體在制備中遠紅外波段激光倍頻晶體、紅外通訊器件、紅外激光制導器件中的應用。
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