[發(fā)明專利]一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區(qū)氣路布置方法以及氣路裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010085998.5
• 申請日: 2020-02-11
• 公開（公告）號: CN111139456A
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發(fā)明（設計）人: 王鑫;曹明剛;安德吉;張磊;焦新宇;金作林
• 申請（專利權(quán)）人: 滄州天瑞星光熱技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C14/22
• 代理公司: 北京邦創(chuàng)至誠知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 11717
• 代理人: 張宇鋒

1.一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區(qū)氣路布置方法，其特征在于：根據(jù)鍍膜真空腔體結(jié)構(gòu)和輝光區(qū)的長度，將輝光區(qū)等分為1-20段子供氣區(qū)域，對每個子供氣區(qū)域分別進行獨立的供氣，將輝光區(qū)兩端延伸出200-500mm的區(qū)域作為輔供氣區(qū)域，對每個輔供氣區(qū)域也分別進行獨立的供氣，每個子供氣區(qū)域與每個輔供氣區(qū)域均設置有一個用于供氣的氣路裝置，氣路裝置通過質(zhì)量流量計定量控制流量。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區(qū)氣路布置方法，其特征在于：所述氣路裝置包括一個主進氣管、至少一個次級分管和一個出氣管，次級分管將主進氣管中氣體1-10級對稱等分后與出氣管連接，所述出氣管平行于輝光區(qū)，出氣管兩端密閉，出氣管在平行于輝光區(qū)方向上均勻分布等徑的出氣孔，所有氣路裝置上的出氣管同軸布置。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區(qū)氣路布置方法，其特征在于：所述出氣管上出氣孔朝同一方向，出氣孔的孔徑為0.1-5mm，出氣孔的間距≥出氣孔的孔徑，出氣管上每個次級分管給其左右各1-5個出氣孔供氣。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區(qū)氣路布置方法，其特征在于：所述出氣管上的出氣孔朝向真空腔壁或者朝向靶材輝光區(qū)。

5.一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區(qū)氣路裝置，其特征在于：所述氣路裝置包括一個進氣管、至少一個次級分管和一個出氣管，所述出氣管為獨立的、平行于輝光區(qū)的、兩端密閉的管狀結(jié)構(gòu)，出氣管由一個質(zhì)量流量計控制氣體流量；氣體通過質(zhì)量流量計后，經(jīng)1-10級對稱等分，各級間距為0.1-100mm，通過至少一個次級分管后，最終從出氣管上均勻分布的出氣孔排出進入真空腔體；每個次級分管給其左右各1-5個出氣孔供氣；所述出氣孔朝同一方向，其朝向真空腔壁或者朝向靶材輝光區(qū)，出氣孔的孔徑相等，為0.1-5mm。