[發明專利]一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區氣路布置方法以及氣路裝置

在審

• 申請號: 202010085998.5
• 申請日: 2020-02-11
• 公開（公告）號: CN111139456A
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 王鑫;曹明剛;安德吉;張磊;焦新宇;金作林
• 申請（專利權）人: 滄州天瑞星光熱技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C14/22
• 代理公司: 北京邦創至誠知識產權代理事務所(普通合伙) 11717
• 代理人: 張宇鋒

1.一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區氣路布置方法，其特征在于：根據鍍膜真空腔體結構和輝光區的長度，將輝光區等分為1-20段子供氣區域，對每個子供氣區域分別進行獨立的供氣，將輝光區兩端延伸出200-500mm的區域作為輔供氣區域，對每個輔供氣區域也分別進行獨立的供氣，每個子供氣區域與每個輔供氣區域均設置有一個用于供氣的氣路裝置，氣路裝置通過質量流量計定量控制流量。

2.根據權利要求1所述的一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區氣路布置方法，其特征在于：所述氣路裝置包括一個主進氣管、至少一個次級分管和一個出氣管，次級分管將主進氣管中氣體1-10級對稱等分后與出氣管連接，所述出氣管平行于輝光區，出氣管兩端密閉，出氣管在平行于輝光區方向上均勻分布等徑的出氣孔，所有氣路裝置上的出氣管同軸布置。

3.根據權利要求2所述的一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區氣路布置方法，其特征在于：所述出氣管上出氣孔朝同一方向，出氣孔的孔徑為0.1-5mm，出氣孔的間距≥出氣孔的孔徑，出氣管上每個次級分管給其左右各1-5個出氣孔供氣。

4.根據權利要求3所述的一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區氣路布置方法，其特征在于：所述出氣管上的出氣孔朝向真空腔壁或者朝向靶材輝光區。

5.一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的輝光區氣路裝置，其特征在于：所述氣路裝置包括一個進氣管、至少一個次級分管和一個出氣管，所述出氣管為獨立的、平行于輝光區的、兩端密閉的管狀結構，出氣管由一個質量流量計控制氣體流量；氣體通過質量流量計后，經1-10級對稱等分，各級間距為0.1-100mm，通過至少一個次級分管后，最終從出氣管上均勻分布的出氣孔排出進入真空腔體；每個次級分管給其左右各1-5個出氣孔供氣；所述出氣孔朝同一方向，其朝向真空腔壁或者朝向靶材輝光區，出氣孔的孔徑相等，為0.1-5mm。