[發明專利]一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的氣路布置方法

在審

• 申請號: 202010085997.0
• 申請日: 2020-02-11
• 公開（公告）號: CN111074240A
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發明（設計）人: 王鑫;曹明剛;安德吉;張磊;焦新宇;金作林
• 申請（專利權）人: 滄州天瑞星光熱技術有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C14/22
• 代理公司: 北京邦創至誠知識產權代理事務所(普通合伙) 11717
• 代理人: 張宇鋒

1.一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的氣路布置方法，其特征在于：根據鍍膜真空腔體結構和輝光區的長度，在輝光區的兩端各增加200-500mm的區域作為輔區域，輝光區與輔區域所組成的區域之和為供氣總區域，將供氣總區域等分為1-20段供氣子區域，對每個供氣子區域分別進行獨立的供氣，每個供氣子區域均設置有一個用于供氣的氣路裝置，氣路裝置通過質量流量計定量控制流量。

2.根據權利要求1所述的一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的氣路布置方法，其特征在于：所述氣路裝置包括一個主進氣管、至少一個次級分管和一個出氣管，次級分管將主進氣管中氣體1-10級對稱等分后與出氣管連接，所述出氣管平行于輝光區，出氣管兩端密閉，出氣管在平行于輝光區方向上均勻分布等徑的出氣孔，所有氣路裝置上的出氣管同軸布置。

3.根據權利要求2所述的一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的氣路布置方法，其特征在于：所述出氣管上出氣孔朝同一方向，出氣孔的孔徑為0.1-5mm，出氣孔的間距≥出氣孔的孔徑，出氣管上每個次級分管給其左右各1-5個出氣孔供氣。

4.根據權利要求3所述的一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的氣路布置方法，其特征在于：所述出氣管上的出氣孔朝向真空腔壁或者朝向靶材輝光區。

5.一種提高真空鍍膜氣氛均勻性的氣路裝置，其特征在于：所述氣路裝置包括一個進氣管、至少一個次級分管和一個出氣管，所述出氣管為獨立的、平行于輝光區的、兩端密閉的管狀結構，出氣管由一個質量流量計控制氣體流量；氣體通過質量流量計后，經1-10級對稱等分，各級間距為0.1-100mm，通過至少一個次級分管后，最終從出氣管上均勻分布的出氣孔排出進入真空腔體；每個次級分管給其左右各1-5個出氣孔供氣；所述出氣孔朝同一方向，其朝向真空腔壁或者朝向靶材輝光區，出氣孔的孔徑相等，為0.1-5mm。