[發(fā)明專利]用于電子設(shè)備的防反射紅外截止濾光器涂層在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010085789.0 | 申請日: | 2020-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN112462463A | 公開(公告)日: | 2021-03-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | T·R·羅斯楚克;李軍;齊彪;J·L·萊爾德 | 申請(專利權(quán))人: | 蘋果公司 |
| 主分類號: | G02B5/28 | 分類號: | G02B5/28;G03B11/00;G03B30/00 |
| 代理公司: | 北京市漢坤律師事務(wù)所 11602 | 代理人: | 陳新;吳麗麗 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 電子設(shè)備 反射 紅外 截止 濾光 涂層 | ||
1.一種電子設(shè)備,包括:
殼體;
顯示器,所述顯示器在所述殼體中;
光學(xué)部件,所述光學(xué)部件在所述殼體中;
透明基底,所述透明基底與所述光學(xué)部件重疊;和
防反射紅外截止濾光器涂層,所述防反射紅外截止濾光器涂層在所述透明基底上,其中,穿過所述防反射紅外截止濾光器涂層的透射光在0至65°的入射角范圍中在LAB色彩空間的a和b坐標(biāo)中表現(xiàn)出量值小于2的最大偏移。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其中,所述防反射紅外截止濾光器涂層包括由多個薄膜層形成的薄膜干涉濾光器。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子設(shè)備,其中,所述透明基底為藍(lán)寶石基底。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電子設(shè)備,其中,所述部件為具有至少120°的視場的廣角相機(jī)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子設(shè)備,其中,所述防反射紅外截止濾光器涂層位于所述藍(lán)寶石基底和所述廣角相機(jī)之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電子設(shè)備,所述電子設(shè)備還包括:
不透明掩蔽材料,所述不透明掩蔽材料位于所述防反射紅外截止濾光器涂層的一部分與所述廣角相機(jī)之間,其中,所述不透明掩蔽材料圍繞與所述廣角相機(jī)重疊的開口。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子設(shè)備,其中,所述藍(lán)寶石基底位于所述防反射紅外截止濾光器涂層與所述廣角相機(jī)之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子設(shè)備,其中,所述薄膜干涉濾光器包括具有交替的高折射率和低折射率的至少七十個薄膜層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電子設(shè)備,其中,所述薄膜干涉濾光器包括交替的氧化鈮層和氧化硅層。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子設(shè)備,其中,所述光學(xué)部件為相機(jī),所述電子設(shè)備還包括:
紅外發(fā)射部件,所述紅外發(fā)射部件與所述相機(jī)相鄰,其中,所述防反射紅外截止濾光器涂層阻擋由所述紅外發(fā)射部件發(fā)射的并由所述透明基底散射的光到達(dá)所述相機(jī)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的電子設(shè)備,其中,所述防反射紅外截止濾光器涂層與所述相機(jī)重疊,而不與所述紅外發(fā)射部件重疊。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備,其中,在0和65°之間,由所述防反射紅外截止濾光器涂層反射的光在LAB色彩空間中具有從標(biāo)稱a值測量的在-0.5到0.5之間的a分量和從標(biāo)稱b值測量的在-1.7到1.0之間的b分量。
13.一種具有內(nèi)部和外部的裝置,所述裝置包括:
廣角相機(jī);
透明層,所述透明層具有面向所述外部的第一表面和面向所述內(nèi)部的相反的第二表面,其中,所述透明層與所述廣角相機(jī)重疊;和
防反射紅外截止濾光器涂層,所述防反射紅外截止濾光器涂層在所述透明層上,其中,所述防反射紅外截止濾光器涂層在0°至65°的入射角透射超過70%的可見波長的光。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置,其中,所述裝置還包括:
殼體,所述殼體具有前表面和后表面;和
顯示器,所述顯示器在所述殼體的所述前表面上。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置,其中,所述透明層形成所述殼體的所述后表面的一部分。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的裝置,其中,所述透明層形成所述殼體的所述前表面的至少一部分。
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