[發明專利]感應加熱液態攪拌連續煉鎂的系統和方法

有效

• 申請號: 202010084600.6
• 申請日: 2020-02-10
• 公開（公告）號: CN111270088B
• 公開（公告）日: 2023-10-13
• 發明（設計）人: 李東波;梁文玉;黎敏;朱立江;姚心;張富信;代文彬;黃超;劉誠;郭天宇;呂東
• 申請（專利權）人: 中國恩菲工程技術有限公司;北京中冶設備研究設計總院有限公司
• 主分類號: C22B26/22
• 分類號: C22B26/22;C22B5/04;C22B5/16
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 宋合成

1.一種煉鎂系統，其特征在于，包括：

硅鐵料倉、鎂礦料倉、熔劑料倉，所述硅鐵料倉、所述鎂礦料倉和所述熔劑料倉均具有物料出口、惰性氣體進口和抽真空口；

給料機構，所述給料機構包括定量給料器和螺旋輸送機，所述定量給料器與所述物料出口相連，所述螺旋輸送機上設有惰性氣體進口；

熔煉機構，所述熔煉機構包括密閉室和感應電爐，所述感應電爐設在所述密閉室內，所述感應電爐頂部設有進料管道和煙氣管道，所述進料管道延伸至所述密閉室外并與所述螺旋輸送機相連，所述煙氣管道延伸至所述密閉室外，所述感應電爐側部設有出渣口和出鐵口，所述出渣口和所述出鐵口延伸至所述密閉室外；所述感應電爐還具有攪拌槳，所述攪拌槳由所述感應電爐頂部伸入所述感應電爐內；其中，所述密閉室和所述感應電爐的側壁上設有惰性氣體進口，所述密閉室的頂壁和所述煙氣管道上設有抽真空口。

2.根據權利要求1所述的煉鎂系統，其特征在于，所述硅鐵料倉、所述鎂礦料倉和所述熔劑料倉均包括上料倉和下料倉。

3.根據權利要求1所述的煉鎂系統，其特征在于，所述上料倉和所述下料倉之間、以及所述下料倉和所述定量給料器之間均設有閥門。

4.根據權利要求1所述的煉鎂系統，其特征在于，位于所述感應電爐側壁的惰性氣體進口包括多個，多個所述惰性氣體進口以所述感應電爐的中心對稱設置。

5.一種利用權利要求1～4任一項所述的煉鎂系統實施的煉鎂方法，其特征在于，包括：

(1)利用抽真空裝置將所述煉鎂系統抽真空后，向所述煉鎂系統中充入惰性氣體；將硅鐵供給至感應電爐內并加熱熔化，以便形成熔池；

(2)利用攪拌槳對所述熔池進行攪拌，并加入鎂礦和熔劑進行還原反應，以便得到鎂蒸氣、含硅鐵水和熔渣；

(3)根據所述還原反應的反應進度，向所述熔池中補充所述硅鐵、所述鎂礦和所述熔劑。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述硅鐵中的硅含量不低于75wt％；

任選地，所述鎂礦包括選自經過煅燒后的白云石和經過煅燒后的菱鎂礦中的至少之一；

任選地，所述熔劑包括選自螢石、氟化鉀和氟化鈉中的至少之一。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述硅鐵的平均粒徑為2～30mm；

任選地，所述鎂礦的平均粒徑為5～50mm；

任選地，所述熔劑的平均粒徑為5～50mm。

8.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述鎂礦與所述熔劑的質量比為100:(1～10)。

9.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述熔池的深度為所述感應電爐爐膛深度的20～50％。

10.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述還原反應在1450～1650℃的溫度和0.06～0.12MPa的壓力下進行。