[發(fā)明專利]表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010084275.3
• 申請日: 2020-02-10
• 公開（公告）號: CN111089173A
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃偉峰;劉向鋒;尹源;劉瑩;李永健;李德才;郭飛;賈曉紅;王子羲
• 申請（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)
• 主分類號: F16J15/34
• 分類號: F16J15/34
• 代理公司: 北京華進(jìn)京聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 趙永輝

1.一種表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，包括動環(huán)和靜環(huán)，動環(huán)和靜環(huán)相對的表面為密封端面，其特征在于，所述動環(huán)和/或所述靜環(huán)上的所述密封端面包括第一區(qū)域至第N區(qū)域共N個(gè)區(qū)域，N為不小于2的自然數(shù)，所述第一區(qū)域至所述第N區(qū)域均為平面區(qū)域，密封介質(zhì)在所述第一區(qū)域至所述第N區(qū)域上的滑移性逐漸增高。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，所述第一區(qū)域至所述第N區(qū)域當(dāng)中的任一區(qū)域?yàn)檫B續(xù)區(qū)域。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，所述第一區(qū)域至所述第N區(qū)域以所述表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)軸線為中心形成嵌套環(huán)形結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，相對靠近所述軸線區(qū)域的滑移性低于相對遠(yuǎn)離所述軸線區(qū)域的滑移性。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，所述第一區(qū)域至所述第N區(qū)域當(dāng)中的任一區(qū)域?yàn)榉沁B續(xù)區(qū)域。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，所述第一區(qū)域至所述第N區(qū)域當(dāng)中的任一區(qū)域沿所述密封端面周向均勻分布。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，所述第二區(qū)域至所述第N區(qū)域當(dāng)中的任一區(qū)域由多個(gè)弧形子區(qū)域組成，所述弧形子區(qū)域形狀和分布近似于外螺旋槽形狀和分布。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，所述第二區(qū)域至所述第N區(qū)域當(dāng)中的任一區(qū)域由多個(gè)弧形子區(qū)域組成，所述弧形子區(qū)域形狀和分布近似于內(nèi)螺旋槽形狀和分布。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，所述第二區(qū)域至所述第N區(qū)域當(dāng)中的任一區(qū)域由多個(gè)矩形子區(qū)域組成，所述矩形子區(qū)域形狀和分布近似于矩形槽形狀和分布。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，所述第二區(qū)域至所述第N區(qū)域當(dāng)中的任一區(qū)域由多個(gè)直角形子區(qū)域組成，所述直角形子區(qū)域形狀和分布近似于直角槽形狀和分布。

11.根據(jù)權(quán)利要求5所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，所述第二區(qū)域至所述第N區(qū)域當(dāng)中的任一區(qū)域由多個(gè)圓形子區(qū)域組成，所述圓形子區(qū)域形狀和分布近似于微圓形槽形狀和分布。

12.根據(jù)權(quán)利要求1-11中任一項(xiàng)所述的表面性質(zhì)圖案化的機(jī)械密封環(huán)，其特征在于，改變所述第一區(qū)域至所述第N區(qū)域當(dāng)中任一區(qū)域滑移性的方法包括沉積、電鍍、化學(xué)包覆、機(jī)械力化學(xué)等表面改性方法。