[發明專利]用于化學氣相沉積涂層應用的支撐件在審
| 申請號: | 202010084099.3 | 申請日: | 2020-02-10 |
| 公開(公告)號: | CN111549334A | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發明(設計)人: | D.巴納吉;P.萊赫特 | 申請(專利權)人: | 肯納金屬公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 盧亞靜 |
| 地址: | 美國賓夕*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 化學 沉積 涂層 應用 支撐 | ||
1.一種載體主體,其包含基座、與所述基座相對的引導元件和凸脊,以用于在涂布過程期間支撐一個或多個切割工具。
2.根據權利要求1所述的載體主體,其中所述凸脊安置在所述基座與引導元件之間并且從所述載體主體的中心縱向軸線徑向向外延伸。
3.根據權利要求1所述的載體主體,其中所述凸脊定義所述載體主體的肩部。
4.根據權利要求1所述的載體主體,其中所述基座具有多邊形橫截面。
5.根據權利要求1所述的載體主體,其中所述基座包含突出部,所述突出部用于接合化學氣相沉積裝置的托盤中的孔口。
6.根據權利要求1所述的載體主體,其中所述基座包含凹部,所述凹部用于接合化學氣相沉積裝置的托盤的突出部。
7.根據權利要求2所述的載體主體,其中所述脊中的一個或多個與所述縱軸形成20度到80度的角。
8.根據權利要求3所述的載體主體,其中所述脊界定所述載體主體的一個或多個面。
9.根據權利要求8所述的載體主體,其中面是多邊形。
10.根據權利要求8所述的載體主體,其中所述面中的兩個或更多個彼此平行。
11.根據權利要求8所述的載體主體,其中載體主體包含與背面平行的正面。
12.根據權利要求1所述的載體主體,其中所述引導元件被配置成在切割工具的孔口內適配。
13.根據權利要求1所述的載體主體,其由組合物形成,所述組合物包含氧化鋁、碳纖維復合物或一種或多種選自鋁、硅和周期表中的第IVB-VIB族的金屬的碳化物、氮化物、碳氮化物、氧化物或氮氧化物。
14.一種化學氣相沉積裝置的托盤,其包含:
用于在涂布過程期間支撐切割工具的載體主體,所述載體主體在所述托盤的一個面上以叢集方式布置。
15.根據權利要求14所述的托盤,其中所述載體主體包含角錐形基座。
16.根據權利要求14所述的托盤,其中所述叢集在所述托盤面上具有周期性布置。
17.根據權利要求14所述的托盤,其中所述叢集在所述托盤面上具有非周期性布置。
18.根據權利要求14所述的托盤,其中所述載體主體被機械加工到所述托盤的面中。
19.根據權利要求14所述的托盤,其中所述載體主體與所述托盤的面結合。
20.根據權利要求14所述的托盤,其中叢集的所述載體主體布置于平臺上,所述平臺與所述托盤的面聯接。
21.根據權利要求20所述的托盤,其中所述平臺包含一個或多個用于與所述托盤中的凹部或孔聯接的突出部。
22.根據權利要求14所述的托盤,其中所述載體主體是由組合物形成,所述組合物包含氧化鋁,或一種或多種選自鋁、硅和周期表中的第IVB-VIB族的金屬的碳化物、氮化物、碳氮化物、氧化物或氮氧化物,并且所述托盤是由包含石墨和/或碳纖維復合材料的組合物形成。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





