[發(fā)明專利]一種表面等離子體共振光纖傳感器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010084043.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111239076B | 公開(公告)日: | 2022-10-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳明陽(yáng);沈建明;孫麗華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/41 | 分類號(hào): | G01N21/41;G01N21/59;G01N21/552 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 212013 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 表面 等離子體 共振 光纖 傳感器 | ||
本發(fā)明提出了一種表面等離子體共振光纖傳感器,包括:傳感光纖,該傳感光纖為少模光纖,包括纖芯和包層,包層的傳感區(qū)經(jīng)加工形成兩個(gè)相互垂直的切面,兩個(gè)切面的交線與纖芯的中心軸線之間的距離大于R為纖芯的半徑,并且纖芯的中心軸線到兩個(gè)切面的垂線長(zhǎng)度相同;及納米金屬線組,每個(gè)切面上均設(shè)有一個(gè)納米金屬線組,納米金屬線組包括至少兩根相互平行的納米金屬線,所有納米金屬線的中心軸線均與纖芯的中心軸線平行,所有納米金屬線的半徑相等、長(zhǎng)度相等、截面形狀相同。本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)偏振不敏感型傳感,可以有效降低傳感對(duì)光源及光纖器件的要求。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光纖傳感領(lǐng)域,尤其涉及一種表面等離子體共振光纖傳感器。
背景技術(shù)
表面等離子體共振是一種特殊的物理光學(xué)現(xiàn)象。光在界面處發(fā)生全反射時(shí),會(huì)在界面附近產(chǎn)生倏逝波,倏逝波會(huì)激發(fā)金屬介質(zhì)界面的自由電子產(chǎn)生表面等離子體波。滲透到金屬介質(zhì)界面的波矢和表面等離子體波的波矢相等時(shí),兩者發(fā)生強(qiáng)烈耦合,就會(huì)發(fā)生表面等離子體共振現(xiàn)象。此時(shí)金屬中的自由電子吸收入射光的能量,使得反射光的能量衰減,在反射光譜中出現(xiàn)共振吸收峰。表面等離子體共振現(xiàn)象對(duì)金屬表面介質(zhì)的折射率變化非常敏感,所以常被用來測(cè)量液體的折射率變化以及跟折射率變化相關(guān)的物理量。
光在光纖中傳輸時(shí),在一定條件下傳感區(qū)域倏逝波與金屬表面等離子體波共振,透射光譜出現(xiàn)吸收峰,外界環(huán)境介質(zhì)變化會(huì)導(dǎo)致SPR光譜曲線共振峰位置發(fā)生改變,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)外界環(huán)境介質(zhì)參量的檢測(cè)。側(cè)邊拋磨光纖由于其強(qiáng)烈的倏逝場(chǎng)作用,常被用來制作光纖表面等離子體共振傳感器。常見的側(cè)邊拋磨光纖表面等離子體共振傳感器是在拋磨區(qū)鍍一層金屬薄膜,這種結(jié)構(gòu)對(duì)y偏振纖芯模式損耗較高,而對(duì)于x偏振纖芯模式損耗較低,難以調(diào)諧共振波長(zhǎng)的范圍和控制表面等離子體模和纖芯模式的耦合損耗。相比于金屬薄膜,拋磨平面排列納米金屬線的結(jié)構(gòu)對(duì)兩種偏振態(tài)的纖芯模都有較高的耦合損耗,同時(shí)通過對(duì)納米金屬線的直徑大小、數(shù)量和間距的合理設(shè)置,可有效控制調(diào)諧共振波長(zhǎng)的范圍、減少表面等離子體模數(shù)量從而形成更為明顯的損耗峰、增強(qiáng)表面等離子體模和纖芯模式的耦合損耗,但該結(jié)構(gòu)仍存在兩種偏振態(tài)所對(duì)應(yīng)的共振波長(zhǎng)不同的問題。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在不足,本發(fā)明提供了一種表面等離子體共振光纖傳感器,能夠?qū)崿F(xiàn)偏振不敏感型傳感,可以有效降低傳感對(duì)光源及光纖器件的要求。
本發(fā)明是通過以下技術(shù)手段實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的的。
一種表面等離子體共振光纖傳感器,包括:
傳感光纖,所述傳感光纖為少模光纖,所述傳感光纖在工作波長(zhǎng)范圍內(nèi),至少支持LP11模的傳輸,所述傳感光纖包括纖芯和包層,所述包層的傳感區(qū)經(jīng)加工形成兩個(gè)相互垂直的切面,兩個(gè)所述切面的交線與所述纖芯的中心軸線之間的距離大于R為所述纖芯的半徑,并且所述纖芯的中心軸線到兩個(gè)所述切面的垂線長(zhǎng)度相同;及
納米金屬線組,每個(gè)所述切面上均設(shè)有一個(gè)納米金屬線組,所述納米金屬線組包括至少兩根相互平行的納米金屬線,所有所述納米金屬線的中心軸線均與所述纖芯的中心軸線平行,所有所述納米金屬線的半徑相等、長(zhǎng)度相等、截面形狀相同。
優(yōu)選地,所述纖芯的中心軸線到兩個(gè)所述切面的垂線長(zhǎng)度為H,且0≤H-R≤1μm。
優(yōu)選地,所述納米金屬線的材質(zhì)為金或銀,所述納米金屬線的半徑r為50~200nm。
優(yōu)選地,所述納米金屬線組中相鄰兩根所述納米金屬線的中心間距為d,滿足
優(yōu)選地,所述納米金屬線組包括奇數(shù)個(gè)所述納米金屬線。
優(yōu)選地,每個(gè)所述納米金屬線組中的中間所述納米金屬線位于位置A,所述位置A為所述纖芯的中心軸線在所述切面的投影位置,其余所述納米金屬線對(duì)稱分布于所述位置A的兩側(cè)。
優(yōu)選地,所述納米金屬線組包括偶數(shù)個(gè)所述納米金屬線。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江蘇大學(xué),未經(jīng)江蘇大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010084043.8/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





