[發明專利]膜構造體的制造方法以及制造裝置

在審

• 申請號: 202010083586.8
• 申請日: 2020-02-07
• 公開（公告）號: CN111605174A
• 公開（公告）日: 2020-09-01
• 發明（設計）人: 上木原伸幸;鐮谷淳一;山本雄士
• 申請（專利權）人: 松下知識產權經營株式會社
• 主分類號: B29C59/04
• 分類號: B29C59/04;H01L21/67;B29L7/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 齊秀鳳

本發明提供一種膜構造體的制造方法以及制造裝置，能夠抑制膜構造體的背面的轉印寬度的變動。膜構造體的制造方法包括：第1固化工序，將膜的表面的轉印材料通過第1加壓輥加壓到第1轉印輥，并且使其固化來形成第1固化膜；第2固化工序，將膜的背面的轉印材料通過第2加壓輥加壓到第2轉印輥，并且使其固化來形成第2固化膜；邊緣檢測工序，檢測第2固化膜的寬度方向端部的位置；判定工序，判定從通過邊緣檢測工序檢測出的第2固化膜的寬度方向端部到膜的一側的寬度方向端部為止的空白寬度是否處于預先設定的閾值范圍內；和加壓力調整工序，在判定為空白寬度超出閾值范圍的情況下，調整第2加壓輥的加壓力以使得空白寬度收斂在閾值范圍內。

技術領域

本發明涉及膜構造體的制造方法以及制造裝置。

背景技術

(壓印技術的背景、應用領域)

近年來，在顯示器、照明等商品中使用的光學部件中，希望形成發揮特殊光學特性的納米(nm)級別到微米(μm)級別的微細形狀的固化膜。通過形成這樣的固化膜，能實現能夠控制光的反射、衍射的發現了以往沒有的新功能的器件。

此外，在系統LSI等的半導體中，希望通過伴隨高集成化的布線的微細化來形成微細形狀的固化膜。

作為形成這樣的微細形狀的固化膜的方法，除了光刻技術、電子束繪制技術以外，近年來壓印技術備受矚目。

所謂壓印技術，是指通過將在表面預先加工了微細形狀的模具按壓到涂覆在基材表面的樹脂，從而形成轉印了微細形狀的固化膜的技術。作為壓印方法，例如有熱壓印法、UV壓印法等。

熱壓印法是通過將加熱至玻璃轉化溫度以上的模具推碰到涂覆在基板表面的熱塑性樹脂，從而獲得轉印了微細形狀的固化膜的方法。UV壓印法是通過在將常溫的模具推碰到涂覆在基板表面的紫外線固化樹脂的狀態下照射UV光，由此獲得轉印了微細形狀的固化膜的方法。

熱壓印法具有與樹脂有關的材料的選擇性廣的優點，但是在使微細形狀轉印時需要將模具升溫以及降溫，因此具有生產量低的缺點。另一方面，UV壓印法限定于通過紫外線固化的樹脂，因此與熱壓印相比較，材料的選擇性窄，但由于能夠用數秒～數十秒完成固化，因此生產量非常高。采用熱壓印法以及UV壓印法的哪種方法根據所應用的器件而不同，但在材料選擇性沒有問題的情況下，認為UV壓印法作為量產方法是適合的。

進而，在作為對象的基材為PET等的膜的情況下，使用在表面形成了微細形狀的輥狀的模具，與膜的送給同時地在膜上轉印微細形狀，從而可預料生產量的進一步提高。該方式一般被稱為輥對輥壓印方式。

(UV輥對輥壓印方式)

對通過基于UV壓印法的輥對輥壓印方式形成微細形狀的一般的方法進行說明(參照專利文獻1)。圖6是一般的輥對輥壓印方式的概略示意圖。

首先，在連續地輸送的膜(膜基材)1上，從模單元2擠出轉印材料3來涂覆。其次，膜1通過在表面形成了轉印形狀(微細形狀)8的轉印輥4與以給定的加壓力按壓到轉印輥4的加壓輥5之間，從而在轉印輥4的表面的轉印形狀8內填充轉印材料3。其次，對于轉印輥4從UV光源6照射UV光，從而轉印材料3以填充到轉印形狀8的狀態開始固化。最后，膜1通過脫模輥7與轉印輥4之間，沿著脫模輥7輸送，由此從轉印輥4脫模，在膜1上形成轉印了轉印形狀8的固化膜9。

該方式是在膜1的單側的面形成固化膜9的方式，但最近希望實現在另一個面也同樣地形成固化膜9且使兩面的固化膜9的相對位置一致的UV輥對輥壓印技術。

對此，在膜1的兩面形成了固化膜9之后，由檢查攝像機檢測所形成的固化膜9的相對位置偏離量，通過對轉印輥4的動作進行修正，從而修正兩面的固化膜9的相對位置偏離量的方法已被有效利用。