[發明專利]一種旋流豎井用的渦室導流坎

有效

• 申請號: 202010082886.4
• 申請日: 2020-02-07
• 公開（公告）號: CN111119138B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 袁浩;劉文;王召兵;陳亮;張曉明;李霞;張緒進;彭永勤;何進朝;謝春航;刁偉;徐啟航
• 申請（專利權）人: 重慶交通大學;重慶西科水運工程咨詢中心
• 主分類號: E02B8/06
• 分類號: E02B8/06
• 代理公司: 重慶博凱知識產權代理有限公司 50212
• 代理人: 萬霞

1.一種旋流豎井用的渦室導流坎，所述渦室導流坎設于上平段出口一側的渦室壁面上，所述渦室導流坎包括沿渦室內水流旋轉方向的導流弧面和位于水流進渦室方向的銜接面，并且在水流方向上導流弧面和銜接面相交；沿渦室內水流旋轉方向，所述導流弧面與渦室壁面平滑過渡銜接；其特征在于，所述銜接面為弧面，從而形成銜接弧面，沿水流進渦室方向，銜接弧面與設于對應的上平段側壁平滑過渡銜接；在豎直方向上，所述銜接弧面遠端距離對應上平段側壁的距離從上到下逐漸減小，所述導流弧面距離對應的渦室壁面的距離逐漸減小，從而形成從上到下逐漸變小的渦室導流坎；所述銜接弧面遠端距離對應上平段側壁的距離從上到下呈曲線型逐漸減小，從而在水流方向上導流弧面和銜接弧面相交成一曲線。

2.根據權利要求1所述的一種旋流豎井用的渦室導流坎，其特征在于，位于銜接弧面底部的遠端距對應上平端側壁的距離為位于銜接弧面頂部的遠端距對應上平端側壁的距離的0~0.9倍。