[發明專利]溫度調節裝置

在審

• 申請號: 202010082555.0
• 申請日: 2020-02-07
• 公開（公告）號: CN111534807A
• 公開（公告）日: 2020-08-14
• 發明（設計）人: 安范模
• 申請（專利權）人: 普因特工程有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/52;F24H9/20;F24H9/18;F24H9/12
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

本發明涉及一種可利用溫度調節物質控制產品溫度的溫度調節裝置，特別是涉及一種可減小在產品內部流動的溫度調節物質的溫度偏差以均勻地控制產品的溫度的溫度調節裝置。

技術領域

本發明涉及一種可利用溫度調節物質控制產品的溫度的溫度調節裝置。

背景技術

在將薄膜沉積到半導體基板或玻璃等的技術中，使用利用化學反應沉積的化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition，CVD)或原子層沉積法(Atomic Layer Deposition，ALD)。

此種如化學氣相沉積或原子層沉積等實行薄膜沉積的設備被用于制造半導體元件。在此種薄膜沉積設備中，為了供給將薄膜沉積到晶片上所要求的反應工藝流體，在腔室內主要設置簇射頭。簇射頭起到如下作用：以薄膜沉積所要求的合適的分布向晶片上噴射反應工藝流體。

作為此種簇射頭，公示有記載在韓國注冊專利第10-0769522號(以下，稱為“專利文獻1”)中者。

專利文獻1中，可通過引導槽將通過主孔及輔助孔流入的反應氣體噴射到晶片表面。

另一方面，在用于顯示器制造的真空腔室內部具有向玻璃上均勻地噴射氣體的擴散器(diffuser)。顯示器是向陣列基板與彩色濾光片基板之間注入液晶并利用其特性獲得圖像效果的非發光元件。此種陣列基板與彩色濾光片基板分別通過在包含玻璃等材質的透明玻璃上經過的多個薄膜的沉積、圖案化及蝕刻工藝來制造。在此情況下，在欲使反應物質及原料以氣體狀流入到真空腔室內部執行沉積工藝的情況，流入的氣體通過擴散器沉積到設置在基座上的玻璃上而形成膜質。

作為此種擴散器，公示有記載在韓國注冊專利第10-1352923號(以下，稱為“專利文獻2”)中者。

在專利文獻2的情況，配置在腔室內的上部區域，向玻璃基板的表面提供沉積物質。

如專利文獻1的簇射頭及專利文獻2的擴散器等流體透過部件會受到密閉的工藝腔室內的溫度的影響。在流體透過部件受到溫度影響的情況下，流體透過部件本身會產生溫度偏差而產生變形。因此，會產生使工藝流體分配方向及密度不均勻的問題。換句話說，在流體透過部件受到工藝腔室內的溫度影響的情況下，存在如下問題點：產生產品的變形，并會對產品的功能帶來不利的影響。

如上所述，揭示一種調節產品的溫度的裝置以防止在產品受溫度影響的情況會產生的問題。

作為此種溫度調節裝置，公示有記載在韓國注冊專利第10-0802667號(以下，稱為“專利文獻3”)中者。

專利文獻3中，將電極板與基座平行地對向配置，將形成有傳熱介質流路的溫度調節板配置在電極板的中央上部的內部，并將在傳熱介質流路中流動的制冷劑的冷熱供給到電極板以調節產品的內部溫度。

然而，專利文獻3為如下結構：由通過使溫度調節板的內部變彎而使形成的傳熱介質流路彎曲的流路結構形成，并且從導入部導入的制冷劑朝向溫度調節板的中央附近流動，然后流經周邊部并經由傳熱介質排出管排出。

由于如上所述的結構，專利文獻3可能會使導入部中的制冷劑的溫度與排出管中的制冷劑的溫度產生偏差。因此，可產生如下問題：由導入部導入的制冷劑首先朝向流動的中心附近與流經中央附近之后流經的周邊部的溫度不均勻，從而無法準確調節產品內部的溫度。結果，存在如下問題：由于產品內部溫度不均勻而導致產品變形及產品功能產生錯誤。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1]韓國注冊專利第10-0769522號

[專利文獻2]韓國注冊專利第10-1352923號

[專利文獻3]韓國注冊專利第10-0802667號

發明內容