[發明專利]用減去劑進行表面微紋理化的方法在審
| 申請號: | 202010082442.0 | 申請日: | 2020-02-07 |
| 公開(公告)號: | CN111546621A | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發明(設計)人: | R·德賽;C·E·奧芬格爾;C·V·坎普;E·格林 | 申請(專利權)人: | 波音公司 |
| 主分類號: | B29C64/10 | 分類號: | B29C64/10;B29C64/20;B29C64/205;B29C64/379;B29C64/393;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y40/20;B33Y50/02;B33Y70/10;B29L31/30 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 付林;王小東 |
| 地址: | 美國伊*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 減去 進行 表面 紋理 方法 | ||
1.一種使基底表面(136,208,324)微紋理化的方法(300),所述方法包括:
將保護層(118,328)打印(302)在所述基底表面上,以在所述基底表面上限定暴露表面區域(334),
通過從所述暴露表面區域移除材料而在所述基底表面上形成(306)微紋理(20,40),并且
從所述基底表面移除(312)所述保護層。
2.根據權利要求1所述的方法(300),其中,移除材料(306)的步驟包括:在所述基底表面(136,208,324)上沉積蝕刻劑(336);以及從所述基底表面移除(311)所述蝕刻劑。
3.根據權利要求2所述的方法(300),其中,所述蝕刻劑(336)選自由以下組成的組:酸、酮、溶劑和苛性堿。
4.根據權利要求1所述的方法(300),其中,移除(306)材料的步驟包括:在所述暴露表面區域(334)上噴射(310)蝕刻劑(336)。
5.根據權利要求1所述的方法(300),其中,由所打印的保護層(118,328)限定微肋條(22),并且所述微肋條之間的槽(24)形成在所述暴露表面區域(334)中。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法(300),其中,移除(312)所述保護層(118,328)的步驟包括:將所述基底表面(136,208,324)浸入(309)溶劑浴中。
7.根據權利要求1至5中任一項所述的方法(300),所述方法還包括以下步驟:
在形成(306)步驟之前,將所述保護層(118,328)固化并結合(305)到所述基底表面(136,208,324)。
8.根據權利要求1至5中任一項所述的方法(300),其中,所述保護層(118,328)選自由以下各項組成的組:氯丁橡膠、共聚物和蠟。
9.根據權利要求1至5中任一項所述的方法(300),其中,所述基底表面(136,208,324)形成飛行器(60)的外表面(62)。
10.根據權利要求1至5中任一項所述的方法(300),其中,所述基底表面(136,208,324)是彎曲的。
11.一種用于在基底表面(136,208,324)上產生微紋理(20,40)的設備(100,200),所述設備包括:
保護層貯存器(120),
打印機(106),所述打印機(106)包括第一噴嘴組件(110,210),所述第一噴嘴組件被構造成將保護層(118,328)從所述保護層貯存器分配到所述基底表面上,以及
控制器(122),所述控制器(122)被編程為使所述第一噴嘴組件相對于所述基底表面移動,從而以圖案(214)在所述基底表面上沉積所述保護層,暴露被構造成在所述基底表面上產生微紋理表面的蝕刻表面區域(216)。
12.根據權利要求11所述的設備(100,200),其中,所述控制器(122)被編程為使所述第一噴嘴組件(110,210)相對于所述基底表面(136,208,324)移動,以限定以約70微米至100微米范圍內的距離(30)間隔開的相鄰微肋條(22)的位置。
13.根據權利要求11所述的設備(100,200),其中,所述第一噴嘴組件(110,210)連接到六軸機器人設備(204)。
14.根據權利要求11至13中任一項所述的設備(100,200),其中,所述打印機(106)是噴墨打印機。
15.根據權利要求11至13中任一項所述的設備(100,200),其中,所述第一噴嘴組件(110,210)被構造成分配所述保護層(118,328),所述保護層選自由以下各項組成的組:氯丁橡膠、共聚物和蠟。
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