[發(fā)明專利]一種土工膜免受破壞的顆粒墊層合理粒徑選配方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010082155.X | 申請日： | 2020-02-07 |
| 公開（公告）號： | CN111175141B | 公開（公告）日： | 2021-02-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 岑威鈞;都旭煌;文震宇;王輝 | 申請（專利權(quán)）人： | 河海大學(xué) |
| 主分類號： | G01N3/12 | 分類號： | G01N3/12 |
| 代理公司： | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人： | 石艷紅 |
| 地址： | 211100 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 土工 免受 破壞 顆粒 墊層 合理 粒徑 選配 方法 | ||
1.一種土工膜免受破壞的顆粒墊層合理粒徑選配方法，其特征在于：包括如下步驟：
步驟1，建立土工膜下墊層顆粒允許最大粒徑Ds與上覆壓力p的數(shù)學(xué)模型：針對設(shè)定厚度的土工膜，開展水壓作用下土工膜受壓局部變形試驗；在土工膜受壓局部變形試驗時，通過改變土工膜下墊層顆粒允許最大粒徑Ds值，獲得不同墊層顆粒允許最大粒徑Ds與對應(yīng)上覆壓力p的定量關(guān)系，從而建立如下所示的Ds與p的數(shù)學(xué)模型：
式中，Ds為墊層顆粒允許最大粒徑，m；Fp為土工膜的CBR頂破強度，N；Zεpeak為土工膜的屈服應(yīng)變因子；p為上覆壓力，Pa；dCBR為CBR試驗的頂桿直徑；α、β為擬合參數(shù)；
步驟2，繪制Ds與p關(guān)系曲線圖：根據(jù)步驟1建立的Ds與p的數(shù)學(xué)模型，繪制Ds與p的關(guān)系曲線圖；由于實際工程中，上覆壓力p不會超過3MPa，因此具有實際工程意義的Ds與p的關(guān)系曲線圖始終位于3MPa左側(cè)；
步驟3，特性分區(qū)：將步驟2繪制完成的Ds與p的關(guān)系曲線圖，分為安全區(qū)和破壞區(qū)；假設(shè)二維坐標(biāo)點(Ds，p)為Ds與p關(guān)系曲線圖中的某點，則：
安全區(qū)為二維坐標(biāo)點(Ds，p)位于Ds與p關(guān)系曲線及以下的區(qū)域；在安全區(qū)內(nèi)，在設(shè)定上覆壓力作用下，通過選擇土工膜墊層級配的最大粒徑，從而使得土工膜免受破壞；
破壞區(qū)為二維坐標(biāo)點(Ds，p)位于Ds與p關(guān)系曲線以上的區(qū)域；在破壞區(qū)內(nèi)，土工膜在下墊層和上覆壓力作用下必然會發(fā)生破壞；
步驟4，選配土工膜免受破壞的顆粒墊層合理粒徑：具體選配方法，包括如下步驟：
步驟41，計算最大上覆壓力pmax：根據(jù)實際工程設(shè)計資料，得到土工膜承受的設(shè)計水深，并根據(jù)設(shè)計水深，計算得到最大上覆壓力pmax；
步驟42，計算下墊層顆粒粒徑上限D(zhuǎn)smax：將最大上覆壓力pmax代入Ds與p的數(shù)學(xué)模型中，并根據(jù)步驟3的特性分區(qū)，得到土工膜在最大上覆壓力pmax下免受破壞的下墊層顆粒粒徑上限D(zhuǎn)smax；
步驟43，選配土工膜免受破壞的顆粒墊層合理粒徑：在實際工程中，土工膜下的墊層料，具有不同大小的顆粒粒徑；當(dāng)墊層上的土工膜受水壓作用時，與墊層中的大粒徑顆粒接觸處的土工膜更容易發(fā)生破壞，故從安全角度考慮，將步驟42確定的免受破壞的下墊層顆粒粒徑上限D(zhuǎn)smax作為實際工程下墊層上限粒徑的指導(dǎo)依據(jù)；因此，在確保選配顆粒墊層的最大粒徑應(yīng)不超過Dsmax的前提下，具有連續(xù)級配。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于河海大學(xué)，未經(jīng)河海大學(xué)許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010082155.X/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
