[發明專利]污水處理裝置及方法在審
| 申請號: | 202010081663.6 | 申請日: | 2020-02-06 |
| 公開(公告)號: | CN111204865A | 公開(公告)日: | 2020-05-29 |
| 發明(設計)人: | 徐鋒;石張;張立杰 | 申請(專利權)人: | 徐鋒 |
| 主分類號: | C02F3/30 | 分類號: | C02F3/30;C02F9/14;C02F101/16;C02F101/30 |
| 代理公司: | 北京勁創知識產權代理事務所(普通合伙) 11589 | 代理人: | 陸瀅炎 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 污水處理 裝置 方法 | ||
1.一種污水處理裝置,其特征在于,包括:沿進水方向依次設置的缺氧單元、第一三相分離器、好氧單元及第二三相分離器,所述缺氧單元用于對待處理的污水進行反硝化處理;所述第一三相分離器用于對所述缺氧單元輸出的第一混合物進行氣液固分離,并能夠使從所述第一三相分離器分離的污泥回輸至所述缺氧單元;所述好氧單元用于對從所述第一三相分離器分離的水體進行好氧處理以及硝化處理;所述第二三相分離器用于對所述好氧單元輸出的第二混合物進行氣液固分離,并能夠使從所述第二三相分離器分離的污泥和部分水體分別回輸至所述好氧單元和所述缺氧單元,以得到出水。
2.根據權利要求1所述的污水處理裝置,其特征在于,所述缺氧單元與所述好氧單元相連接且彼此隔離,所述第一三相分離器設置于所述缺氧單元內,所述第二三相分離器設置于所述好氧單元內。
3.根據權利要求2所述的污水處理裝置,其特征在于,所述第一三相分離器包括分離室,所述分離室內設置有第一沉淀區,所述分離室的底部設置有與所述第一沉淀區相連通的第一過流口,所述分離室包括多個,多個所述分離室連接于一體,且相鄰兩個所述分離室相互朝向的一側共同構成集氣罩,所述集氣罩用于在所述缺氧單元輸出的第一混合物由下至上流經所述分離室的過程中隔擋并收集所述第一混合物中的氣體;所述第一過流口用于供所述第一混合物中剩余的污泥和水體流入所述第一沉淀區進行泥水分離,并用于供所述第一沉淀區內分離的污泥流出所述第一沉淀區并落入至所述缺氧單元。
4.根據權利要求3所述的污水處理裝置,其特征在于,所述第一三相分離器還包括擋氣件,所述擋氣件設置于所述分離室的第一過流口處;所述擋氣件用于阻擋所述第一混合物中的氣體經所述第一過流口進入所述第一沉淀區。
5.根據權利要求3所述的污水處理裝置,其特征在于,所述缺氧單元位于所述分離室的上方的內部空間還隔離形成有與所述第一沉淀區相連通的第二沉淀區,所述第二沉淀區用于供所述第一沉淀區內的污泥和水體流入進行泥水分離。
6.根據權利要求5所述的污水處理裝置,其特征在于,所述分離室的頂部設置有第二過流口,所述第二過流口連通所述第一沉淀區和所述第二沉淀區,所述第二過流口用于供所述第一沉淀區內的污泥和水體流入所述第二沉淀區,并用于供所述第二沉淀區內的污泥向下回流至所述第一沉淀區。
7.根據權利要求1所述的污水處理裝置,其特征在于,還包括如下中的至少一個:
第一連接管,所述第一連接管的兩端分別與所述第一三相分離器和所述好氧單元連接,所述第一連接管用于將從所述第一三相分離器分離的水體傳輸至好氧單元;
第二連接管,所述第二連接管的兩端分別與所述第二三相分離器和所述缺氧單元連接,所述第二連接管用于將從所述第二三相分離器分離的部分水體回輸至所述缺氧單元;
第一曝氣單元,所述第一曝氣單元設置于所述好氧單元的底部,所述第一曝氣單元用于向所述好氧單元的內部充氣;
第二曝氣單元,所述第二曝氣單元設置于所述缺氧單元的底部,所述第二曝氣單元用于向所述缺氧單元的內部充氣;
第一斜管填料,設置于所述第一三相分離器的出水區,所述第一斜管填料用于增強流動至所述第一三相分離器的出水區內的水體和污泥之間的分離效果;及
第二斜管填料,設置于所述第二三相分離器的出水區,所述第二斜管填料用于增強流動至所述第二三相分離器的出水區內的水體和污泥之間的分離效果。
8.一種污水處理方法,其特征在于,包括以下步驟:
在缺氧單元對待處理的污水進行反硝化處理;
利用第一三相分離器對所述缺氧單元輸出的第一混合物進行氣液固分離,并使從所述第一三相分離器分離的污泥回輸至所述缺氧單元;
在好氧單元對從所述第一三相分離器分離的水體進行好氧處理及硝化處理;及
利用第二三相分離器對所述好氧單元輸出的第二混合物進行氣液固分離,并使從所述第二三相分離器分離的污泥和部分水體分別回輸至所述好氧單元和所述缺氧單元,以得到出水。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于徐鋒,未經徐鋒許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010081663.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





