[發(fā)明專利]一種不確定結(jié)構(gòu)電大目標(biāo)電磁散射特性分析方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010081535.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-02-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111368398A | 公開(公告)日: | 2020-07-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳勇;李煥敏;黨訓(xùn)旺;郝津釧;殷紅成 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京環(huán)境特性研究所 |
| 主分類號(hào): | G06F30/20 | 分類號(hào): | G06F30/20 |
| 代理公司: | 北京格允知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609 | 代理人: | 周嬌嬌 |
| 地址: | 100854*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 不確定 結(jié)構(gòu) 電大 目標(biāo) 電磁 散射 特性 分析 方法 裝置 | ||
1.一種不確定結(jié)構(gòu)電大目標(biāo)電磁散射特性分析方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1、采用非有理B樣條曲面建模,構(gòu)建含可變結(jié)構(gòu)的目標(biāo)幾何模型,以控制點(diǎn)描述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的不確定性,各所述控制點(diǎn)的坐標(biāo)值根據(jù)實(shí)際情況表示為不同的隨機(jī)變量;
S2、根據(jù)所述目標(biāo)幾何模型,基于物理光學(xué)近似法得到遠(yuǎn)區(qū)散射場積分方程,并引入目標(biāo)結(jié)構(gòu)的不確定性,通過泰勒級(jí)數(shù)展開實(shí)現(xiàn)確定項(xiàng)與隨機(jī)項(xiàng)的分離,計(jì)算隨機(jī)項(xiàng)遠(yuǎn)區(qū)散射場,得到電大目標(biāo)的電磁散射特性結(jié)果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于:
所述步驟S1中采用非有理B樣條曲面建模,構(gòu)建含可變結(jié)構(gòu)的目標(biāo)幾何模型時(shí),目標(biāo)上的任意一點(diǎn)表示為:
其中,u、v分別表示曲面節(jié)點(diǎn)矢量,Ri,j(u,v)表示基于節(jié)點(diǎn)矢量的分段有理基函數(shù),Pij表示控制點(diǎn),m、n分別表示兩個(gè)維度上的總控制點(diǎn)數(shù),i、j分別表示各控制點(diǎn)的編號(hào)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于:
所述步驟S2中,基于物理光學(xué)近似法得到遠(yuǎn)區(qū)散射場積分方程時(shí),由斯特拉頓-朱蘭成方程得到良導(dǎo)體目標(biāo)的遠(yuǎn)區(qū)散射場表達(dá)式為:
其中,Es(r)表示遠(yuǎn)區(qū)散射場,r表示坐標(biāo)原點(diǎn)到觀察點(diǎn)的矢徑,k表示電磁波波數(shù),η表示磁導(dǎo)率,R0表示觀察點(diǎn)與目標(biāo)的距離,s表示目標(biāo)表面的照明部分,和分別表示入射方向和觀察方向的單位矢量,n表示表面法向單位矢量,Hi表示入射磁場強(qiáng)度,r'表示坐標(biāo)原點(diǎn)到散射源處的矢徑。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于:
所述步驟S2中引入目標(biāo)結(jié)構(gòu)的不確定性后,得到如下表達(dá)式:
E(αI)=b(αI)
其中,E(αI)表示遠(yuǎn)區(qū)散射場,αI表示區(qū)間中的任意值,αc和分別表示不確定量的確定部分和隨機(jī)部分,b(αI)表示基于不確定性表示的目標(biāo)散射場物理光學(xué)近似計(jì)算式。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于:
所述步驟S2中通過泰勒級(jí)數(shù)展開實(shí)現(xiàn)確定項(xiàng)與隨機(jī)項(xiàng)的分離時(shí),對(duì)b(αI)進(jìn)行一階泰勒級(jí)數(shù)展開,得:
其中,n表示隨機(jī)變量的個(gè)數(shù),αi表示第i個(gè)隨機(jī)變量,Δαi表示第i個(gè)隨機(jī)變量的最大變化范圍。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于:
所述步驟S2中計(jì)算隨機(jī)項(xiàng)散射場時(shí),采用如下公式:
Ec+ΔEI=b(αc)+ΔbI
其中,ΔEI表示遠(yuǎn)區(qū)散射場的變化量,Ec表示目標(biāo)尺寸為αc時(shí)的遠(yuǎn)區(qū)散射場,定義為:
Ec=b(αc)
則有:
結(jié)合良導(dǎo)體目標(biāo)的遠(yuǎn)區(qū)散射場表達(dá)式,有:
其中,A表示與αi對(duì)應(yīng)的區(qū)域面積;
進(jìn)而計(jì)算出ΔEI,得到含不確定結(jié)構(gòu)電大目標(biāo)的電磁散射特性結(jié)果。
7.一種不確定結(jié)構(gòu)電大目標(biāo)電磁散射特性分析裝置,其特征在于,包括:
建模單元,用于采用非有理B樣條曲面建模,構(gòu)建含可變結(jié)構(gòu)的目標(biāo)幾何模型,以控制點(diǎn)描述目標(biāo)結(jié)構(gòu)的不確定性,各所述控制點(diǎn)的坐標(biāo)值根據(jù)實(shí)際情況表示為不同的隨機(jī)變量;
解算單元,用于根據(jù)所述目標(biāo)幾何模型,基于物理光學(xué)近似法得到遠(yuǎn)區(qū)散射場積分方程,并引入目標(biāo)結(jié)構(gòu)的不確定性,通過泰勒級(jí)數(shù)展開實(shí)現(xiàn)確定項(xiàng)與隨機(jī)項(xiàng)的分離,計(jì)算隨機(jī)項(xiàng)散射場,得到電大目標(biāo)的電磁散射特性結(jié)果。
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