[發(fā)明專利]基于場(chǎng)、接觸力和時(shí)間的不可逆電穿孔(IRE)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010079351.1
• 申請(qǐng)日: 2020-02-03
• 公開（公告）號(hào): CN111227927B
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: A.C.阿爾特曼;A.戈瓦里;V.格萊納
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 韋伯斯特生物官能（以色列）有限公司
• 主分類號(hào): A61B18/12
• 分類號(hào): A61B18/12
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 鄭浩;陳嵐

1.一種用于向組織施加不可逆電穿孔脈沖的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：

探頭，所述探頭被配置為在一段時(shí)間內(nèi)向組織施加不可逆電穿孔(IRE)脈沖，以在所述組織中形成消融灶；和

處理器，所述處理器被配置為：

測(cè)量在所述時(shí)間段內(nèi)由所述探頭施加于所述組織的接觸力；

基于所測(cè)量的接觸力和所述IRE脈沖的功率水平來計(jì)算IRE指數(shù)；

響應(yīng)于所計(jì)算的IRE指數(shù)達(dá)到預(yù)先指定的目標(biāo)IRE指數(shù)值，停止向所述組織施加所述IRE脈沖；

模擬由所述IRE脈沖產(chǎn)生的電場(chǎng)以估計(jì)所述消融灶的計(jì)劃的深度；以及

基于所述IRE指數(shù)和組織細(xì)胞與電極的接近度來調(diào)整所述電場(chǎng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述處理器被配置為通過計(jì)算升高至第一校準(zhǔn)指數(shù)的所述接觸力和升高至第二校準(zhǔn)指數(shù)的所述功率的乘積在所述時(shí)間段上的積分來計(jì)算所述IRE指數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述處理器被進(jìn)一步配置為向使用者呈現(xiàn)所述IRE指數(shù)和所述預(yù)先指定的目標(biāo)IRE指數(shù)值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述IRE指數(shù)對(duì)應(yīng)于所述消融灶的估計(jì)的體積。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述IRE指數(shù)對(duì)應(yīng)于所述消融灶的估計(jì)的深度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述IRE指數(shù)對(duì)應(yīng)于所述消融灶的估計(jì)的直徑。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述處理器被進(jìn)一步配置為通過測(cè)量所述IRE脈沖的峰值電壓來測(cè)量所述功率水平。