[發明專利]吸收HCl產生的廢堿液的再利用方法及其應用在審
| 申請號: | 202010078378.9 | 申請日: | 2020-02-03 |
| 公開(公告)號: | CN111268697A | 公開(公告)日: | 2020-06-12 |
| 發明(設計)人: | 吳濤 | 申請(專利權)人: | 好科(上海)環保科技有限公司 |
| 主分類號: | C01D3/02 | 分類號: | C01D3/02;C01B33/18;C01B7/03;C01B7/07;C02F1/66;C02F101/14;C02F103/18 |
| 代理公司: | 上海脫穎律師事務所 31259 | 代理人: | 李強 |
| 地址: | 201906 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸收 hcl 產生 廢堿液 再利用 方法 及其 應用 | ||
1.一種吸收HCl產生的廢堿液的再利用方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)向吸收HCl產生的廢堿液中加入石英刻蝕處理產生的廢液,HF、H2SiF6和NaCl、NaOH反應生成NaF、Na2SiF6和稀鹽酸;
(2)將步驟(1)中得到的NaF和Na2SiF6加入過量的Na2CO3溶液中,加熱并充分攪拌,Na2SiF6和Na2CO3反應生成NaF、SiO2和CO2。
2.根據權利要求1所述的吸收HCl產生廢堿液的再利用方法,其特征在于,吸收HCl產生的廢堿液包括,HCl氣體的至少一部分通過NaOH吸收產生的含NaCl廢堿液,以及HCl氣體的至少一部分經水吸收后剩余HCl氣體再與NaOH反應生成的含NaCl廢堿液;石英刻蝕處理產生的廢液是采用HF溶液處理石英表面產生的含H2SiF6和HF的廢液。
3.根據權利要求1所述的吸收HCl產生廢堿液的再利用方法,其特征在于,步驟(1)中,利用冷卻結晶工藝使NaF、Na2SiF6和稀鹽酸分離,采用分離出的稀鹽酸的至少一部分吸收HCl氣體。
4.根據權利要求3所述的吸收HCl產生廢堿液的再利用方法,其特征在于,將分離出的稀鹽酸的至少一部分與Ca(OH)2混合配制CaCl2溶液,并使用制得的CaCl2溶液處理石英清洗廢水,CaCl2和HF反應生成CaF2。
5.根據權利要求1所述的吸收HCl產生廢堿液的再利用方法,其特征在于,步驟(2)的反應過程中,加熱溫度為90~95℃,并將反應溶液的pH值調至大于8。
6.根據權利要求1所述的吸收HCl產生廢堿液的再利用方法,其特征在于,步驟(2)中,將反應生成的SiO2經絮凝后分離出,再進行干燥;將反應生成的NaF經冷卻結晶后分離出。
7.根據權利要求6所述的吸收HCl產生廢堿液的再利用方法,其特征在于,步驟(2)中,將NaF和SiO2分離后的剩余溶液再次用于配制Na2CO3溶液。
8.一種石英刻蝕處理產生的廢液的再利用方法,其特征在于,包括權利要求1~7任一項所述的吸收HCl產生的廢堿液的再利用方法。
9.權利要求1~7任一項所述的吸收HCl產生的廢堿液的再利用方法在處理氣相法石英產品制造工藝的廢氣吸收液中的應用。
10.權利要求1~7任一項所述的吸收HCl產生的廢堿液的再利用方法在處理光纖預制棒制造工藝中的廢氣吸收液中的應用。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于好科(上海)環保科技有限公司,未經好科(上海)環保科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010078378.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:種植體的表面處理方法及仿生種植體
- 下一篇:一種枕套充絨設備





