[發(fā)明專(zhuān)利]燒結(jié)釹鐵硼磁體的鍍層結(jié)構(gòu)及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010076563.4 | 申請(qǐng)日： | 2020-01-23 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN111270280B | 公開(kāi)（公告）日： | 2021-03-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 郝志平;羅贛;白蘭;羅霆 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 北京麥戈龍科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | C25D7/00 | 分類(lèi)號(hào)： | C25D7/00;C25D5/12;H01F41/26 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;盧軍峰 |
| 地址： | 101300 北*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 燒結(jié) 釹鐵硼 磁體 鍍層 結(jié)構(gòu) 及其 制備 方法 | ||
1.一種燒結(jié)釹鐵硼磁體的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：
燒結(jié)釹鐵硼磁體；
含錫層，并且圍繞所述燒結(jié)釹鐵硼磁體；
銅層，圍繞所述含錫層；以及
鎳層，圍繞所述銅層，
其中，所述含錫層用作底層，所述鎳層用作表層，并且所述銅層介于所述含錫層和所述鎳層之間；
所述含錫層的厚度在3～5μm之間；
所述含錫層是錫層或銅錫二元合金層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)釹鐵硼磁體的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述銅層的厚度在3～5μm之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)釹鐵硼磁體的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述鎳層的厚度在4～8μm之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的燒結(jié)釹鐵硼磁體的鍍層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述含錫層與所述燒結(jié)釹鐵硼磁體直接接觸。
5.制備權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的一種燒結(jié)釹鐵硼磁體的鍍層結(jié)構(gòu)的制備方法，其特征在于，包括：
對(duì)所述燒結(jié)釹鐵硼磁體進(jìn)行前處理；
在所述燒結(jié)釹鐵硼磁體上形成一層含錫層；
在所述含錫層上形成一層銅層；以及
在所述銅層上形成一層鎳層，
其中，所述含錫層用作底層，并且所述鎳層用作表層；
所述含錫層是錫層或銅錫二元合金層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述含錫層與所述燒結(jié)釹鐵硼磁體直接接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法，其特征在于，通過(guò)電鍍形成所述含錫層、所述銅層和所述鎳層。
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