[發明專利]用于離子色譜的帶有洗脫液屏障的抑制器有效
| 申請號: | 202010074386.6 | 申請日: | 2020-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN111487362B | 公開(公告)日: | 2022-12-16 |
| 發明(設計)人: | K·斯里尼瓦桑;S·巴德瓦杰;G·M·庫斯 | 申請(專利權)人: | 戴安公司 |
| 主分類號: | G01N30/96 | 分類號: | G01N30/96;G01N30/38;G01N30/60 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 陳潔;周全 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 離子 色譜 帶有 洗脫 屏障 抑制器 | ||
1.一種用于減少離子色譜法檢測液體樣品中的分析物過程中的背景信號的抑制器,所述抑制器包含:
A)第一區塊,其包括:
i)第一隔室;
ii)沿所述第一隔室的外圍設置的第一密封構件;
iii)設置于所述第一隔室中的第一屏障;
iv)第一入口;和
v)第一出口;
B)能夠使只帶一個正電荷或負電荷的離子穿過的、并能夠阻止大體積液體流動的第一離子交換膜;
C)在兩個圓柱形部分之間延伸的洗脫液通道板,其包括:
i)中心切口部分,所述中心切口部分具有在所述中心切口部分內延伸的外圍邊界部分,所述外圍邊界部分包括兩個或更多個凹口或突起,其中所述洗脫液通道板包括洗脫液通道板高度H1,且所述外圍邊界部分包括低于所述洗脫液通道板高度H1的凹進的洗脫液通道板高度H2,其中所述洗脫液通道板高度H1和所述凹進的洗脫液通道板高度H2垂直于所述洗脫液通道板的平面;
ii)設置于所述中心切口部分中的洗脫液屏障,其中所述洗脫液屏障的外圍邊界具有兩個或更多個與所述洗脫液通道板對應的凹口或對應的突起;
iii)位于所述洗脫液通道板的第一端面上的入口孔,其中所述入口孔與所述中心切口部分通過流體連接;和
iv)位于所述洗脫液通道板的第二端面上的出口孔,其中所述出口孔與所述中心切口部分通過流體連接;
D)能夠使只帶一個正電荷或負電荷的離子穿過、并能夠阻止大體積液體流動的第二離子交換膜,其中所述第一離子交換膜和所述第二離子交換膜具有相同電荷;以及
E)第二區塊,其包括:
i)第二隔室;
ii)沿所述第二隔室的外圍設置的第二密封構件;
iii)設置于所述第二隔室中的第二屏障;
iv)第二入口;和
v)第二出口;
其中所述第一離子交換膜設置于所述第一區塊與所述洗脫液通道板的第一側之間;其中所述第一隔室、所述第一密封構件和所述第一離子交換膜形成第一再生劑通道且沿所述第一隔室的外圍通過流體密封所述第一再生劑通道;
其中所述第二離子交換膜設置于所述第二區塊與所述洗脫液通道板的第二側之間,所述洗脫液通道板的所述第二側在所述洗脫液通道板的所述第一側的相對側上;其中所述第二隔室、所述第二密封構件和所述第二離子交換膜形成第二再生劑通道且沿所述第二隔室的外圍通過流體密封所述第二再生劑通道;并且
其中所述第一離子交換膜、所述中心切口部分和所述第二離子交換膜包夾在一起以形成洗脫液通道,儲存所述洗脫液屏障于所述洗脫液通道中,且沿所述外圍邊界部分通過流體密封所述洗脫液通道。
2.根據權利要求1所述的抑制器,其中所述第一離子交換膜抵靠在所述洗脫液通道板的所述第一側,使得所述第一離子交換膜接觸所述外圍邊界部分的第一側,以及所述第二離子交換膜抵靠在所述洗脫液通道板的所述第二側,使得所述第二離子交換膜接觸所述外圍邊界部分的第二側,而所述外圍邊界部分的所述第二側在所述外圍邊界部分的所述第一側的相對側上。
3.根據權利要求2所述的抑制器,其中所述第一離子交換膜接觸所述外圍邊界部分和所述洗脫液屏障的所述對應的凹口或所述對應的突起,且所述第二離子交換膜接觸所述外圍邊界部分和所述洗脫液屏障的所述對應的凹口或所述對應的突起。
4.根據權利要求1所述的抑制器,其中所述洗脫液屏障在垂直于所述洗脫液通道板的平面的方向上具有洗脫液屏障高度,而所述洗脫液屏障高度約等于所述凹進的洗脫液通道板高度。
5.根據權利要求1所述的抑制器,其中所述第一區塊進一步包括沿所述第一隔室的外圍形成于所述第一區塊中的第一凹槽,且所述第一密封構件設置于所述第一凹槽中,且所述第二區塊進一步包括沿所述第二隔室的外圍形成于所述第二區塊中的第二凹槽,且所述第二密封構件設置于所述第二凹槽中。
6.根據權利要求1所述的抑制器,其中所述入口孔和所述出口孔均沿平行于所述洗脫液通道板的所述平面的縱向軸線對準。
7.根據權利要求1所述的抑制器,其中所述第一密封構件為第一O形環,且所述第二密封構件為第二O形環。
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