[發明專利]在全息記錄中限制固態激光器有效相干長度的系統和方法

有效

• 申請號: 202010074334.9
• 申請日: 2020-01-22
• 公開（公告）號: CN111505925B
• 公開（公告）日: 2022-05-10
• 發明（設計）人: 蒂莫西·J·布里頓;詹姆士·M·特德斯科
• 申請（專利權）人: 凱塞光學系統股份有限公司
• 主分類號: G03H1/04
• 分類號: G03H1/04;G03H1/02;H01S3/102
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 穆森;戚傳江

1.一種使全息記錄介質曝光的方法，包括以下步驟：

提供固態激光器，所述固態激光器被配置成輸出具有標稱發射波長的激光光束；

將所述激光光束分成第一曝光光束和第二曝光光束，以在曝光時段期間在所述記錄介質中形成具有相位的第一干涉條紋圖樣；

依照波長-時間曲線來改變所述激光器的所述標稱發射波長，以減小在所述曝光時段期間積分的所述激光器的有效相干長度；以及

在所述記錄介質正在被曝光的同時，使所述第一干涉條紋圖樣的相位維持在最大相干性的位置處或最大對比度的位置處。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，通過調整波長敏感激光腔分量或參數來改變所述激光器的標稱發射波長。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述波長敏感激光腔分量或參數是所述激光器的諧振腔光具座的溫度設定點。

4.根據權利要求3所述的方法，還包括：

使用干涉儀來監測所述標稱發射波長；以及

經由反饋控制回路依照所述波長-時間曲線來更新所述溫度設定點。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，依照波長-時間曲線來改變所述激光器的所述標稱發射波長包括在貫穿所述曝光時段中以預先確定的變化率改變所述標稱發射波長。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，依照波長-時間曲線來改變所述激光器的所述標稱發射波長包括在貫穿所述曝光時段中連續地改變所述標稱發射波長。

7.根據權利要求1所述的方法，還包括：

在所述記錄介質處或附近對所述第一曝光光束和所述第二曝光光束進行采樣，以確定所述條紋圖樣的相位。

8.根據權利要求7所述的方法，還包括：

依照所確定的相位來調整所述第一曝光光束和所述第二曝光光束中的一個的路徑長度，以使所述條紋圖樣的對比度最大化。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，所述標稱發射波長在100皮米或更小的光譜帶寬上改變。

10.根據權利要求9所述的方法，其中，所述光譜帶寬在1至20皮米的范圍內。

11.根據權利要求1所述的方法，其中，所述標稱發射波長被控制在10皮米或更小內。

12.根據權利要求1所述的方法，其中，所述標稱發射波長被控制在0.1皮米內。

13.根據權利要求1所述的方法，其中，使所述第一干涉條紋圖樣的相位維持在最大相干性的位置或最大對比度的位置處的步驟包括：

在所述記錄介質處或附近對所述第一曝光光束和所述第二曝光光束進行采樣，以確定最大相干性的位置或最大對比度的位置；以及

隨著所述標稱發射波長改變，調整所述第一曝光光束和所述第二曝光光束中的一個的路徑長度，以使所述第一干涉條紋圖樣的相位維持在最大相干性或對比度的位置處。

14.根據權利要求13所述的方法，還包括：

使所述第一曝光光束和所述第二曝光光束沿著共同路徑偏離所述記錄介質，以形成第二干涉條紋圖樣；以及

在所述第二干涉條紋圖樣中檢測條紋的峰、零位或邊緣。

15.根據權利要求1所述的方法，其中，所述記錄介質限定100平方英寸或更大的孔徑。

16.根據權利要求1所述的方法，其中，所述記錄介質形成平視顯示器。