[發(fā)明專利]一種高激光損傷閾值的中紅外非線性光學(xué)晶體材料及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010073039.1 | 申請日： | 2020-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN111118600B | 公開（公告）日： | 2021-09-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吳奇;劉賢 | 申請（專利權(quán)）人： | 湖北師范大學(xué) |
| 主分類號： | G02F1/355 | 分類號： | G02F1/355;C30B29/12;C30B7/04;C30B7/14;C30B7/06 |
| 代理公司： | 黃石市三益專利商標(biāo)事務(wù)所 42109 | 代理人： | 林曉珍 |
| 地址： | 435000*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 激光 損傷 閾值 紅外 非線性 光學(xué) 晶體 材料 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種高激光損傷閾值的中紅外非線性光學(xué)晶體材料，其特征在于：所述晶體材料的化學(xué)式為Rb2CdI4，晶體空間群為Ama2，晶胞參數(shù)為：α＝β＝γ＝90°，Z＝4；制備時(shí)，將RbI和CdBr2·4H2O加至水與丙酮的混合溶液中，攪拌至澄清，反應(yīng)半小時(shí)后得到無色透明澄清溶液，將溶液置于常溫下?lián)]發(fā)，10-15天后得到無色的塊狀晶體，即為所述的光學(xué)晶體材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高激光損傷閾值的中紅外非線性光學(xué)晶體材料，其特征在于：所述晶體材料的粉末倍頻效應(yīng)為磷酸二氫鉀的2倍，全透過范圍為0.31-20μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高激光損傷閾值的中紅外非線性光學(xué)晶體材料，其特征在于：其粉末樣品在輻射激光為1064nm，10ns，1Hz的條件下，所述晶體材料粉末的激光損傷閾值為115MW/cm2，在同等測試條件下是商用化材料AgGaS2的46倍，熱失重溫度為556℃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高激光損傷閾值的中紅外非線性光學(xué)晶體材料，其特征在于：所述RbI與CdBr2·4H2O的物質(zhì)的量之比為3:1。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高激光損傷閾值的中紅外非線性光學(xué)晶體材料，其特征在于：所述水與丙酮的混合溶液中水與丙酮的體積比為1:6。
6.如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的一種高激光損傷閾值的中紅外非線性光學(xué)晶體材料在光學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
