[發明專利]光子系統及其制造方法

有效

• 申請號: 202010071881.1
• 申請日: 2020-01-21
• 公開（公告）號: CN111458809B
• 公開（公告）日: 2022-07-26
• 發明（設計）人: J-F·卡彭蒂爾;C·鮑多特
• 申請（專利權）人: 意法半導體（克洛爾2）公司
• 主分類號: G02B6/42
• 分類號: G02B6/42
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 王茂華

1.一種光子系統，包括：

第一光子電路，具有第一面、第一波導、第二波導和第一定位設備，所述第一定位設備從所述第一面凸起，每個第二波導至少部分地覆蓋并且耦合到所述第一波導中的對應的一個第一波導，所述第二波導與所述第一面接觸，所述第一波導位于所述第一面的面對所述第二波導的一側；以及

第二光子電路，包括第二面、第三波導和第二定位設備，所述第二定位設備從所述第二面凸起，每個第三波導至少部分地覆蓋并且耦合到所述第二波導中的對應的一個第二波導，所述第二波導被定位在所述第一面和所述第二面之間，并且所述第一定位設備中的至少一個第一定位設備在第一方向上鄰接所述第二定位設備中的對應的一個第二定位設備，其中：

每個第一定位設備包括第一表面，所述第一表面在垂直于所述第一方向的第二方向上從所述第一面凸起，

每個第二定位設備包括第二表面，所述第二表面在所述第二方向上從所述第二面凸起，并且

當所述第二光子電路在第一方向上相對于所述第一光子電路移動時，所述第一定位設備和所述第二定位設備在第三方向上機械地協作，所述第三方向橫向于所述第一方向和所述第二方向。

2.根據權利要求1所述的系統，其中：

對于所述第一定位設備和所述第二定位設備中的所述對應的一個第二定位設備，所述第一定位設備的所述第一表面與所述第二定位設備中的所述對應的一個第二定位設備的所述第二表面接觸。

3.根據權利要求2所述的系統，其中：

每個第一定位設備包括第一本體、以及在所述第一方向上相對于所述第一本體突出的部分；并且

每個第二定位設備包括第二本體，所述第二本體具有在所述第一方向上延伸到所述第二本體中的中空部分。

4.根據權利要求3所述的系統，其中對于每個第一定位設備，所述突出部分具有與所述中空部分至少部分互補的形狀。

5.根據權利要求3所述的系統，其中對于每個第一定位設備，所述突出部分具有在所述第一方向上的截面，所述截面的面積隨著距所述第一定位設備的所述第一本體的距離增加而減小。

6.根據權利要求1所述的系統，其中所述第二波導和所述第一定位設備由相同的材料制成。

7.根據權利要求1所述的系統，其中每個第一定位設備與所述第二定位設備中的相應一個第二定位設備機械接觸。

8.根據權利要求1所述的系統，其中所述第一光子電路包括與第一波導一樣多的光源。

9.根據權利要求8所述的系統，其中所述光源是激光源。

10.根據權利要求1所述的系統，還包括支撐件和鍵合球，所述第二光子電路被固定到所述支撐件，并且所述第一光子電路通過所述鍵合球被固定到所述支撐件。

11.根據權利要求1所述的系統，其中：

在每個第二波導與被所述第二波導覆蓋的所述第一波導之間實現第一絕熱耦合；并且

在每個第三波導與被所述第三波導覆蓋的所述第二波導之間實現第二絕熱耦合。