[發(fā)明專(zhuān)利]柔性石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié)的制備與轉(zhuǎn)移方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010071226.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-01-21 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111254414B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李連碧;臧源;陳鴻;胡繼超;林生晃;張國(guó)青;蒲紅斌;封先鋒;宋立勛;涂喆研;李澤斌;徐永康;王蓉 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 西安工程大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C16/24 | 分類(lèi)號(hào): | C23C16/24;C23C16/44;C23C16/56;H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 西安弘理專(zhuān)利事務(wù)所 61214 | 代理人: | 張皎 |
| 地址: | 710048 陜*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 柔性 石墨 烯基硅 納米 線異質(zhì)結(jié) 制備 轉(zhuǎn)移 方法 | ||
1.柔性石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié)的制備與轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,采用濕法將石墨烯轉(zhuǎn)移至SiO2/Si上,并利用CVD法制備石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié),將制備好的石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié),旋涂PMMA/PDMS雙支撐膜,利用NaOH溶液刻蝕掉SiO2,實(shí)現(xiàn)石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié)的整體轉(zhuǎn)移,具體包括以下步驟:
步驟1.將表面覆蓋有2nm厚Au的石墨烯基材放入CVD爐中,開(kāi)啟機(jī)械泵抽真空;
步驟2.待機(jī)械泵將CVD爐內(nèi)氣壓抽真空至l0-1Pa,打開(kāi)分子泵,并將爐腔氣壓抽真空至l×10-4Pa;
步驟3.關(guān)閉分子泵,并打開(kāi)氬氣路閥門(mén),調(diào)整氣體流量為0.1slm,調(diào)節(jié)機(jī)械泵旋鈕,使CVD爐腔體壓力為1.33×104Pa,打開(kāi)加熱系統(tǒng),并以35℃/min的速率加熱到500℃;
步驟4.保持500℃的時(shí)間為10 min,并通入10 sccm的SiH4;
步驟5.待10分鐘生長(zhǎng)結(jié)束后,關(guān)閉SiH4氣體閥門(mén);在氬氣保護(hù)下,CVD爐自然冷卻到室溫,得到石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié);
步驟6.將石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié)放入勻膠機(jī)中,滴上PMMA溶液進(jìn)行旋涂,使PMMA溶液均勻覆蓋硅納米線;
步驟7.將旋涂好的樣品放在120℃的電熱板上20min,進(jìn)行固化PMMA;
步驟8.配置PDMS溶液,并將PDMS溶液均勻滴涂在樣品表面,然后將樣品放入95℃的烘箱中40min,進(jìn)行固化PDMS;
步驟9.切除多余的PDMS,然后放入1mol/L的NaOH溶液中,以刻蝕襯底中的SiO2;
步驟10.采用去離子水將刻蝕后的樣品清洗干凈,并將覆蓋有PDMS/PMMA的石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié)從SiO2/Si襯底上剝離;
步驟11.石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié)轉(zhuǎn)移到柔性襯底上,完成轉(zhuǎn)移過(guò)程。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié)的制備與轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,步驟6中,勻膠機(jī)的轉(zhuǎn)速為800r/min,保持6s,并以2000r/min旋涂30s,重復(fù)一次勻膠旋涂過(guò)程。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié)的制備與轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,步驟8中,PDMS溶液采用聚二甲基硅氧烷(PDMS)和固化劑按10:1的比例混合制得。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性石墨烯基硅納米線異質(zhì)結(jié)的制備與轉(zhuǎn)移方法,其特征在于,步驟9中,刻蝕的NaOH溶液為90℃,水浴加熱下反應(yīng)40min。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的





