[發(fā)明專利]一種LPCVD雙材質真空反應室

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010070654.7
• 申請日: 2020-01-21
• 公開（公告）號: CN111074239A
• 公開（公告）日: 2020-04-28
• 發(fā)明（設計）人: 張鳳嘉;任俊江;薇兒妮卡·夏麗葉;張靈;肖益波
• 申請（專利權）人: 賽姆柯（蘇州）智能科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/458
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 吳芳

1.一種LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，包括具有中空結構的反應室(1)、設置在反應室(1)內的進氣組件及設置在反應室(1)端部的出氣管(2)，所述進氣組件與外部氣源(13)連接，所述反應室(1)包括外層腔體(11)及設置在外層腔體(11)內的內層腔體(12)，所述外層腔體(11)由金屬材質制成，所述內層腔體(12)由石英材質制成；

所述進氣組件包括至少一個左進氣管(3)及至少一個右進氣管(4)，每一個左進氣管(3)的進氣口設置在反應室(1)長度方向的一端部，每一個右進氣管(4)的進氣口設置在反應室(1)長度方向的另一端部，所述左進氣管(3)與右進氣管(4)均沿所述反應室(1)的長度方向延伸，所述左進氣管(3)和右進氣管(4)上均設置有多個間隔設置的出氣孔；所述反應室(1)與爐門配合的端部外套設有由金屬材質制成的密封法蘭，所述密封法蘭的一端面用于與爐門抵觸。

2.根據(jù)權利要求1所述的LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，所述密封法蘭(5)遠離反應室的圓周外側部上設置有沿圓周方向的凹槽(51)。

3.根據(jù)權利要求2所述的LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，所述進氣組件還包括分別設置在反應室(1)長度方向兩端部的氣管接頭(9)，每一個氣管接頭(9)的一端與左進氣管(3)或右進氣管(4)連接，另一端與外部氣源(13)連接，所述密封法蘭(5)的圓周外側部設置有至少一個氣管接頭(9)。

4.根據(jù)權利要求1所述的LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，所述反應室(1)內設置有用于支撐所述左進氣管(3)和右進氣管(4)的支撐件(10)，所述支撐件(10)的一端與內層腔體(12)的內側壁接觸，另一端與左進氣管(3)或右進氣管(4)接觸。

5.根據(jù)權利要求1所述的LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，所述左進氣管(3)和右進氣管(4)之間通過連接件進行連接。

6.根據(jù)權利要求5所述的LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，所述連接件為相對設置的第一連接板和第二連接板及設置在所述第一連接板和第二連接板之間的第三連接板，所述第一連接板與第二連接板均用于分別與相鄰的左進氣管(3)和右進氣管(4)抵觸。

7.根據(jù)權利要求6所述的LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，所述第三連接板為曲面狀，且其寬度方向上的側邊沿為弧形狀。

8.根據(jù)權利要求1所述的LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，所述外層腔體(11)為長度方向的一端封閉、另一端開口的筒體結構，所述內層腔體(12)為其長度方向的兩端部均開口的筒體結構。

9.根據(jù)權利要求8所述的LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，所述外層腔體(11)的一端部設置有用于密封的金屬板(6)，所述金屬板(6)與反應室(1)焊接，使得所述外層腔體(11)的一端部為封閉結構。

10.根據(jù)權利要求9所述的LPCVD雙材質真空反應室，其特征在于，所述反應室(1)設置有金屬板(6)的端部設置有與外部輔助裝配工具相配合的定位件(7)及用于檢測反應室(1)內溫度的熱電偶(8)。