[發明專利]一種微焦斑光源參數測量透鏡、以及測量系統和方法在審
| 申請號: | 202010069075.0 | 申請日: | 2020-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN111413069A | 公開(公告)日: | 2020-07-14 |
| 發明(設計)人: | 王亞冰;孫天希;邵尚坤;孫學鵬 | 申請(專利權)人: | 北京師范大學 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02;G03B42/02 |
| 代理公司: | 北京名華博信知識產權代理有限公司 11453 | 代理人: | 胡丹 |
| 地址: | 100875 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 微焦斑 光源 參數 測量 透鏡 以及 系統 方法 | ||
1.一種微焦斑光源參數測量系統,其特征在于,包括:
X射線聚焦鏡,設置于待測量的X射線光源之后,并使所述X射線在其中進行單次全反射;
X射線探測器,設置于所述X射線聚焦鏡之后,配置有用于調節器件同軸的多維度調節架;所述X射線探測器用于探測經所述X射線聚焦鏡全反射的X射線的能量;
光束阻擋器,設置于所述X射線探測器之前,用于阻擋通過所述X射線聚焦鏡的直通光;
數據處理器,與所述X射線探測器連接,用于獲取所述X射線探測器的測量數據,并結合測量系統的基礎參數數據,調用預設的參數計算公式,計算得到微焦斑光源參數。
2.根據權利要求1所述的微焦斑光源參數測量系統,其中:
所述光束阻擋器,設置于所述X射線聚焦鏡之后,所述X射線探測器之前;或者,
所述光束阻擋器,設置于所述X射線聚焦鏡之前,所述X射線光源之后。
3.根據權利要求1或2所述的微焦斑光源參數測量系統,其特征在于,該系統還包括:
存儲器,與所述處理器連接,用于存儲測量數據、以及所述微焦斑光源的參數;
顯示器,與所述處理器和存儲器連接,用于顯示數據和人機交互操作。
4.根據權利要求1至3任一項所述的微焦斑光源參數測量系統,其特征在于,該系統為便攜式設備,該設備還包括外殼,該外殼開設有:
接收端開口,開設于所述外殼前端,用于嵌接所述X射線聚焦鏡,所述X射線聚焦鏡的入口端緊貼所述外殼前端外壁;
探測器卡槽,開設于所述外殼后端,用于卡接所述X射線探測器;
阻擋器卡槽,開設于所述外殼底部,靠近所述X射線探測器,用于卡接所述光束阻擋器;
其中,所述接收端開口至所述探測器卡槽之間形成射線接收室;所述X射線聚焦鏡的出口緊貼所述射線接收室的前端。
5.根據權利要求4所述的微焦斑光源參數測量系統,其中:
所述外殼由可阻擋X射線輻射的鉛制材料制成;和/或,
所述射線接收室的長度設置可使反射線與直通射線在光路上分開;和/或,
所述光束阻擋器卡槽設置于所述射線接收室后端,以阻擋直通光;和/或,
所述探測器卡槽為活動式卡槽,根據所述X射線探測器的探頭面積可調節。
6.根據權利要求4或5所述的微焦斑光源參數測量系統,其中:
所述射線接收室的長度約為20cm,高為2cm;和/或,
所述光束阻擋器的長度為1.2~1.5cm;所述光束阻擋器卡槽距所述射線接收室前端約15cm;和/或,
所述探測器卡槽活動的范圍為2cm~10cm;所述X射線探測器與所述X射線光源同軸且二者相距大于10cm。
7.根據權利要求4所述的微焦斑光源參數測量系統,其中,所述X射線聚焦鏡的入口到所述微焦斑光源鈹窗的距離F的最小值Fm,為:
上述公式中,L為所述X射線聚焦鏡的長度,ID為所述X射線聚焦鏡的入口直徑,OD為所述X射線聚焦鏡的出口直徑,S為所述X射線聚焦鏡的傾斜角。
8.根據權利要求7所述的微焦斑光源參數測量系統,其中:
所述微焦斑光源參數包括微焦斑光源的光源焦深D和焦斑尺寸Z,所述處理器根據獲取的測量參數,調用預設的參數計算公式計算得到微焦斑光源的光源焦深D和焦斑尺寸Z;
該參數計算公式為:
其中,ρ為反射面物質的密度,Es為可聚焦的最大能量的X射線的能量,C為修正系數。
9.一種微焦斑光源參數測量透鏡,其特征在于,該測量透鏡用于根據權利要求1至8任一項所述的微焦斑光源參數測量系統,所述測量透鏡為一種斜率一定的錐形單玻璃毛細管。
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