[發明專利]用于制造顯示面板的新型掩模版及其制備方法

在審

• 申請號: 202010068079.7
• 申請日: 2020-01-21
• 公開（公告）號: CN111258171A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 郝蕓蕓;韋亞一;董立松;陳睿
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G03F1/00
• 分類號: G03F1/00;G03F1/70
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 付婧

1.一種用于制造顯示面板的新型掩模版，包括透光區域和遮光區域，其特征在于，

所述透光區域中包括與所述遮光區域連接的多曝光區域，所述多曝光區域為制造顯示面板過程中對所述新型掩模版進行拼接曝光的多個曝光區域之間的重疊區域；

所述多曝光區域中劃分有一個或多個單元子區域，所述單元子區域中填充有冗余圖形，所述單元子區域中被所述冗余圖形覆蓋的區域不透光。

2.根據權利要求1所述的新型掩模版，其特征在于，所述冗余圖形的尺寸小于所述新型掩模版對應的最大分辨率尺寸。

3.根據權利要求1所述的新型掩模版，其特征在于，所述冗余圖形在所述單元子區域中的填充率位于預設填充率區間內，所述填充率位于所述預設填充率區間內使得所述多曝光區域內的曝光量分布滿足預設平整分布條件。

4.一種權利要求1-3任一項所述的新型掩模版的制備方法，其特征在于，所述方法包括：

確定第一掩模版中包括的多曝光區域；

在所述多曝光區域中劃分若干單元子區域；

在每個所述單元子區域中填充冗余圖形，得到新型的第二掩模版。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述確定第一掩模版中包括的多曝光區域，包括：

通過曝光系統對第一掩模版進行單次曝光；

通過面板制造光刻設備移動所述第一掩模版，通過所述曝光系統對移動后的所述第一掩模版進行再次曝光；

分別獲取所述第一掩模版每次曝光對應的曝光量分布曲線；

根據所述面板制造光刻設備的設備參數及每次曝光對應的所述曝光量分布曲線，確定所述第一掩模版中包括的多曝光區域。

6.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述在每個所述單元子區域中填充冗余圖形之前，還包括：

根據所述單元子區域的面積和預設填充率區間，確定待填充的冗余圖形對應的面積區間；

從所述面積區間中選擇待填充的所述冗余圖形的面積；

根據預設的掩模制造規則，確定待填充的冗余圖形對應的最優尺寸。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述在每個所述單元子區域中填充冗余圖形，包括：

根據待填充的所述冗余圖形的面積和所述最優尺寸，在每個所述單元子區域中填充所述冗余圖形。

8.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述在每個所述單元子區域中填充冗余圖形，得到新型的第二掩模版之后，還包括：

將所述第二掩模板在待拼接區域的襯底基板上方進行移動拼接；

采用曝光系統通過每次移動后的所述第二掩模版的透光區域對所述襯底基板進行曝光，將所述第二掩模版上的掩模圖形轉移至所述襯底基板上。

9.一種面板制造設備，包括：面板制造機臺的存儲器、處理器及存儲在所述存儲器上并可在所述處理器上運行的計算機程序，其特征在于，所述處理器運行所述計算機程序時執行以實現如權利要求4-8任一項所述的方法。

10.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，其上存儲有計算機可讀指令，所述計算機可讀指令可被處理器執行以實現如權利要求4-8任一項所述的方法。