[發(fā)明專利]一種受阻胺類光穩(wěn)定劑的造粒方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010068060.2
• 申請日: 2020-01-21
• 公開（公告）號: CN111251493B
• 公開（公告）日: 2022-05-31
• 發(fā)明（設計）人: 成新云;盧紅偉;安平;劉永勝;余鐵;孫春光;李海平
• 申請（專利權）人: 天津利安隆新材料股份有限公司
• 主分類號: B29B9/06
• 分類號: B29B9/06;C08K5/3492
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種受阻胺類光穩(wěn)定劑的造粒方法，其特征在于：使用水下模面切粒系統(tǒng)對受阻胺類光穩(wěn)定劑進行造粒，制得光穩(wěn)定劑粒子所述受阻胺類光穩(wěn)定劑的分子量為1000-5000；

所述造粒方法為將具有一定壓力的熔融態(tài)受阻胺類光穩(wěn)定劑輸送進入水下模面切粒系統(tǒng)造粒，即得；

所述一定壓力指的是水下模面切粒系統(tǒng)進口處的物料壓力，該壓力為0.5-1.0MPa。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于：所述受阻胺類光穩(wěn)定劑的分子量為2000-4000。

3.根據權利要求1-2任一項所述的方法，其特征在于：所述受阻胺類光穩(wěn)定劑包括但不局限于丁胺哌啶光穩(wěn)定劑、己二胺哌啶光穩(wěn)定劑、酯連接哌啶光穩(wěn)定劑中的至少一種。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于：所述受阻胺類光穩(wěn)定劑具有式I所示結構：

式I中，R₁選自H、C_1-20的烷基、-O-C_1-20烷基或環(huán)烷基、C_6-20芳基或烷基芳基；R₂、R₃、R_2'、R_3'各自獨立地選自C_1-10的烷基或者R₂和R₃以及R_2'和R_3'分別形成C_5-10的環(huán)烷基；R₄、R₅各自獨立地選自C_1-20直鏈或支鏈烷基、哌啶基或烷基取代的哌啶基、環(huán)己基、吡咯烷基、或R₄和R₅形成環(huán)烷基或含氧環(huán)烷基；n選自1-5的任意整數；

或者，所述受阻胺類光穩(wěn)定劑具有式II所示結構：

式II中，R₁、R₂、R₃、R_2'、R_3'的定義同式I中的定義；

或者，所述受阻胺類光穩(wěn)定劑具有式III所示結構：

式III中，R₂、R₃、R_2'、R_3'的定義同式I中的定義；n選自1-5的任意整數；E選自-O-C_1-10亞烷基-、-C_1-10亞烷基-C(＝O)-O-C_1-10亞烷基-、-C_1-10亞烷基-O-C(＝O)-C_1-10亞烷基-。