[發明專利]控制方法、裝置、烹飪設備和可讀存儲介質

在審

• 申請號: 202010066825.9
• 申請日: 2020-01-20
• 公開（公告）號: CN113133669A
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發明（設計）人: 黃韋銘;劉化勇;邢勝華;羅飛龍;羊小亮;吳良柳
• 申請（專利權）人: 佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司
• 主分類號: A47J36/32
• 分類號: A47J36/32;A47J27/00
• 代理公司: 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙) 11343
• 代理人: 汪海屏

1.一種烹飪設備的控制方法，其特征在于，用于具有第一腔室、第二腔室、加熱裝置、壓力裝置和釋壓結構的烹飪設備，所述第二腔室與所述第一腔室之間連通，所述烹飪設備的控制方法包括：

響應于烹飪指令，控制開啟所述加熱裝置；

在沖刷階段，啟動交替執行控制開啟所述壓力裝置與控制開啟所述釋壓結構的操作，

其中，所述壓力裝置適于所述第一腔室與所述第二腔室之間配置出壓差，所述壓差適于驅動所述第二腔室內的液體流入所述第一腔室，所述釋壓結構被配置為使所述第一腔室釋壓，使所述第一腔室的液體回流至所述第二腔室。

2.根據權利要求1所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，所述在沖刷階段，啟動交替執行控制開啟所述壓力裝置與控制開啟所述釋壓結構的操作，具體包括：

采集所述第二腔室的液溫；

若檢測到所述第二腔室的液溫大于或等于第一預設溫度，啟動交替執行控制開啟所述壓力裝置與控制開啟所述釋壓結構的操作。

3.根據權利要求2所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，所述控制開啟所述壓力裝置，具體包括：

控制所述壓力裝置持續運行；

檢測到所述壓力裝置的運行參數和/或所述第一腔室的狀態參數與預設的浸泡檢測參數匹配，控制所述壓力裝置進入浸泡工作模式，

其中，在所述浸泡工作模式，所述壓力裝置被配置為進入關閉狀態，或所述壓力裝置被配置為降功率運行、或所述壓力裝置被配置為間歇運行。

4.根據權利要求2所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，控制開啟所述釋壓結構，還包括：

檢測到所述釋壓結構的開啟時長大于或等于第一預設時長；和/或

檢測到所述第一腔室的狀態參數與預設的回落檢測參數匹配，控制關閉所述釋壓結構。

5.根據權利要求2所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，還包括：

若檢測到所述第二腔室的液溫大于或等于第一預設溫度，控制所述加熱裝置停止運行。

6.根據權利要求1所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，所述在沖刷階段，啟動交替執行控制開啟所述壓力裝置與控制開啟所述釋壓結構的操作，還包括：

若所述壓力裝置和/或所述釋壓結構的開啟次數大于或等于預設次數，控制所述釋壓結構對所述第一腔室釋壓后，控制關閉所述壓力裝置與所述釋壓結構；和/或

若所述沖刷階段的持續時長大于或等于第二預設時長，控制所述釋壓結構對所述第一腔室釋壓后，控制關閉所述壓力裝置與所述釋壓結構。

7.根據權利要求6所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，

所述預設次數大于或等于10，小于或等于100；

所述沖刷階段的持續時長大于或等于3min，并小于或等于18min。

8.根據權利要求3所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，在檢測到第二腔室的液溫大于或等于所述第一預設溫度前，還包括：

檢測到所述第二腔室的液溫大于或等于第二預設溫度，控制開啟所述壓力裝置，并將所述壓力裝置配置為所述浸泡工作模式，直至檢測到所述浸泡工作模式的持續時長大于或等于第二預設時長，以及所述第二腔室的液溫上升至大于或等于所述第一預設溫度，

其中，所述第二預設溫度小于所述第一預設溫度。

9.根據權利要求8所述的烹飪設備的控制方法，其特征在于，若檢測到所述第二腔室的液溫大于或等于第二預設溫度，還包括：

控制所述加熱裝置降功率運行或控制所述加熱裝置間歇式運行。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的烹飪設備的控制方法，用于還具有加熱裝置的烹飪設備，其特征在于，還包括：

若結束交替執行控制開啟所述壓力裝置與控制開啟所述釋壓結構的操作，控制所述加熱裝置繼續運行。