[發(fā)明專利]一種先樁法導管架植入式嵌巖樁嵌巖段灌漿管系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010066484.5 | 申請日: | 2020-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN111172988A | 公開(公告)日: | 2020-05-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王大鵬;汪冬冬;蘇豫東;高健岳;潘曉煒;張悅然;王巖松;吳海兵;呂東良;許衛(wèi)士 | 申請(專利權)人: | 中交港灣(上海)科技有限公司;中交上海港灣工程設計研究院有限公司;中交第三航務工程局有限公司 |
| 主分類號: | E02D15/04 | 分類號: | E02D15/04;E02D27/42;E02D27/12;E02D27/52;E02D15/06 |
| 代理公司: | 上海百一領御專利代理事務所(普通合伙) 31243 | 代理人: | 王奎宇;楊孟娟 |
| 地址: | 201411 上海市奉賢區(qū)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 先樁法 導管 植入 式嵌巖樁嵌巖段 灌漿 系統(tǒng) | ||
1.一種先樁法導管架植入式嵌巖樁嵌巖段灌漿管系統(tǒng),其特征在于,
所述灌漿管系統(tǒng)向鋼管樁和鉆孔孔壁之間的環(huán)形空間輸送灌漿料,
所述灌漿管系統(tǒng)包括:一次灌漿管和二次灌漿管,所述一次灌漿管的底部管口的高程高于封底灌漿口頂標高高程,所述二次灌漿管的底部管口設置在所述一次灌漿管頂標高上方;
所述一次灌漿管和所述二次灌漿管的管口底標高低于導管架插尖底標高的部分灌漿管,在所述導管架插尖底標高下方1-3m位置處由所述鋼管樁內(nèi)引至所述鋼管樁外的環(huán)形空間設置。
2.根據(jù)權利要求1所述的灌漿管系統(tǒng),其特征在于,所述一次灌漿管/所述二次灌漿管均設置有至少一層子灌漿管,其中,設置在同一層上的多根所述子灌漿管的管口在高程上間隔0.5-1m設置。
3.根據(jù)權利要求2所述的灌漿管系統(tǒng),其特征在于,當所述二次灌漿管設置有至少兩層子灌漿管時,從底層往頂層依次為第一層、第二層……第N層,其中,N≥3,所述第二層以及第N層的子灌漿管均設置在所述鋼管樁外且通過焊接方式固定在所述鋼管樁上。
4.根據(jù)權利要求2或3所述的灌漿管系統(tǒng),其特征在于,當所述二次灌漿管設置有兩層子灌漿管時,從底層往頂層依次為第一層和第二層,其中,所述第二層設置在二次灌漿管的底部管口標高和泥面標高的中間位置。
5.根據(jù)權利要求1所述的灌漿管系統(tǒng),其特征在于,所述一次灌漿管和所述二次灌漿管的頂部管口均與所述鋼管樁頂標高齊平。
6.根據(jù)權利要求1或2或3或5所述的灌漿管系統(tǒng),其特征在于,設置在所述鋼管樁內(nèi)的所述一次灌漿管/所述二次灌漿管的底部管口穿過所述鋼管樁壁面并與所述環(huán)形空間連通設置。
7.根據(jù)權利要求1或2或3或5所述的灌漿管系統(tǒng),其特征在于,所述一次灌漿管的底部管口的高程高于封底灌漿口頂標高高程0.5-1m設置;所述二次灌漿管的底部管口設置在所述一次灌漿管頂標高上方0.5-1m。
8.根據(jù)權利要求1所述的灌漿管系統(tǒng),其特征在于,所述一次灌漿管和所述二次灌漿管中的其中一根子灌漿管在灌漿過程中出現(xiàn)堵管時,更換其他的子灌漿管繼續(xù)向所述環(huán)形空間內(nèi)灌漿。
9.根據(jù)權利要求1或2或3或5或8所述的灌漿管系統(tǒng),其特征在于,先通過一次灌漿管進行一次灌漿,再通過二次灌漿管進行二次灌漿,其中,二次灌漿在一次灌漿的灌漿料完全凝固后進行。
10.根據(jù)權利要求1或2或3或5或8所述的灌漿管系統(tǒng),其特征在于,所述一次灌漿管和所述二次灌漿管先泵送水,再泵送潤管料,最后泵送灌漿料。
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