[發明專利]不透明度控制方法、裝置以及AR/MR設備、控制器和介質在審
| 申請號: | 202010066325.5 | 申請日: | 2020-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN111273776A | 公開(公告)日: | 2020-06-12 |
| 發明(設計)人: | 陳一鳴;管亮;朱海超 | 申請(專利權)人: | 芋頭科技(杭州)有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/01 | 分類號: | G06F3/01;G02B27/01 |
| 代理公司: | 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019 | 代理人: | 丁慧玲;壽寧 |
| 地址: | 310000 浙江省杭州市余杭區*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 不透 明度 控制 方法 裝置 以及 ar mr 設備 控制器 介質 | ||
1.一種不透明度控制方法,用于AR/MR設備,其特征在于,包括:
獲取當前光強度和佩戴者的眼睛狀態特征參數;
將所述當前光強度和佩戴者的眼睛狀態特征參數輸入預先訓練的不透明度回歸模型中,輸出設備參數目標值;
基于所述設備參數目標值調整對應的設備參數,以調整AR/MR設備的不透明度。
2.根據權利要求1所述的不透明度控制方法,其特征在于,
還包括,訓練所述不透明度回歸模型,具體包括:
獲取實驗佩戴者的眼睛參考狀態;
以不同的光強度作為測試環境,獲取每一光強度下,使得實驗佩戴者處于最舒適狀態下對應的設備參數以及實驗佩戴者的眼睛狀態特征參數;
基于所述實驗佩戴者的眼睛參考狀態將實驗佩戴者的眼睛狀態特征參數標準化;
將光強度、對應的標準化后的眼睛狀態參數作為輸入、將對應的設備參數作為輸出進行回歸模型訓練,得到所述不透明度回歸模型。
3.根據權利要求1或2所述的不透明度控制方法,其特征在于,
所述眼睛狀態特征參數包括眼鏡開合度和瞳孔大小。
4.根據權利要求3所述的不透明度控制方法,其特征在于,
所述設備參數包括電致變色薄膜變色程度、液晶薄膜光學漫射程度和光機光學功率水平中的一種或多種,其中,所述電致變色薄膜和液晶薄膜安裝在AR/MR設備的前保護蓋內。
5.一種的不透明度控制裝置,用于AR/MR設備,其特征在于,包括:
參數獲取模塊,配置為獲取當前光強度和佩戴者的眼睛狀態特征參數;
目標值輸出模塊,配置為將所述當前光強度和佩戴者的眼睛狀態特征參數輸入預先訓練的不透明度回歸模型中,輸出設備參數目標值;
不透明度調整模塊,配置為基于所述設備參數目標值調整對應的設備參數,以調整AR/MR設備的不透明度。
6.根據權利要求5所述的不透明度控制裝置,其特征在于,
還包括不透明度回歸模型訓練模塊,具體包括:
眼睛狀態校準單元,配置為獲取實驗佩戴者的眼睛參考狀態;
訓練參數獲取單元,配置為以不同的光強度作為測試環境,獲取每一光強度下,使得實驗佩戴者處于最舒適狀態下對應的設備參數以及實驗佩戴者的眼睛狀態特征參數;
眼睛特征參數標準化單元,配置為基于所述實驗佩戴者的眼睛參考狀態將實驗佩戴者的眼睛狀態特征參數標準化;
回歸模型訓練單元,配置為將光強度、對應的標準化后的眼睛狀態參數作為輸入、將對應的設備參數作為輸出進行回歸模型訓練,得到所述不透明度回歸模型。
7.根據權利要求5或6所述的不透明度控制裝置,其特征在于,
所述參數獲取模塊包括:
眼部追蹤傳感器,用于獲取眼睛狀態特征參數,所述眼睛狀態特征參數包括眼鏡開合度和瞳孔大小;
光強傳感器,用于獲取當前光強度。
8.根據權利要求7所述的不透明度控制裝置,其特征在于,
所述設備參數包括電致變色薄膜變色程度、液晶薄膜光學漫射程度和光機光學功率水平中的一種或多種,其中,所述電致變色薄膜和液晶薄膜安裝在AR/MR設備的前保護蓋內。
9.一種AR/MR設備,其特征在于,包括權利要求5-8中任意一項所述用于AR/MR設備的不透明度控制裝置。
10.一種控制器,其包括存儲器與處理器,其特征在于,所述存儲器存儲有計算機程序,所述程序在被所述處理器執行時能夠實現權利要求1至4中任意一項權利要求所述的方法的步驟。
11.一種計算機可讀存儲介質,用于存儲計算機程序,其特征在于,所述程序在由一計算機或處理器執行時實現如權利要求1至4中任意一項權利要求所述的方法的步驟。
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