[發(fā)明專利]一種高分子復(fù)合材料及濾波器腔體的制備方法

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• 申請日: 2020-01-20
• 公開（公告）號: CN111253745A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王曉燕;陳鏗
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州道田新材料科技有限公司
• 主分類號: C08L79/08
• 分類號: C08L79/08;C08L81/02;C08L27/18;C08L77/00;C08L61/16;C08L81/06;C08L69/00;C08L67/00;C08K7/14;C08K7/04;C08J5/04;C08J7/04;C09D179/08;C09D181/02
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200
• 代理人: 郭瑤

1.一種高分子復(fù)合材料，其特征在于，該復(fù)合材料按質(zhì)量百分比計，包括高分子基體和增強材料，增強材料的質(zhì)量含量為5～85wt％，增強材料均勻分散于高分子基體中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高分子復(fù)合材料，其特征在于，高分子基體為聚四氟乙烯、聚醚酰亞胺、聚酰亞胺、聚酰胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚醚砜、聚苯醚、聚碳酸酯與聚酯中的一種或者幾種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高分子復(fù)合材料，其特征在于，增強材料為有機纖維或者無機纖維、晶須、晶體與粉末中的一種或者多種。

4.一種濾波器腔體的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

(1)將高分子復(fù)合材料經(jīng)過成型工藝加工成腔體坯體；其中，復(fù)合材料按質(zhì)量百分比計，包括高分子基體和增強材料，增強材料的質(zhì)量含量為5～85wt％，增強材料均勻分散于高分子基體中；

(2)將腔體胚體經(jīng)過表面活化處理工藝使其具有表面粗糙度和表面活性；

(3)將經(jīng)過粗化處理工藝的腔體進行表面金屬化工藝使得表面具有金屬層，得到高分子復(fù)合材料腔體。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濾波器腔體的制備方法，其特征在于，步驟(1)中，高分子基體為聚四氟乙烯、聚醚酰亞胺、聚酰亞胺、聚酰胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚醚砜、聚苯醚、聚碳酸酯與聚酯中的一種或者幾種；

增強材料為有機纖維或者無機纖維、晶須、晶體與粉末中的一種或者多種；

成型工藝為注塑、擠出、粉末冶金、車削、模壓與打磨工藝一種或者多種組合。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濾波器腔體的制備方法，其特征在于，步驟(2)中，表面活化處理工藝為：首先向腔體坯體表面涂覆含有金屬粒子的涂料，然后再經(jīng)過粗化處理使得涂料中的金屬粒子裸露。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的濾波器腔體的制備方法，其特征在于，含有金屬粒子的涂料通過以下過程制得：將高分子基體溶解在溶劑中，然后加入金屬粒子，分散均勻得到含有金屬粒子的涂料；

粗化處理為：將包覆在金屬粒子表面的樹脂層破壞，使得金屬粒子完全裸露在高分子基體表面，粗化處理為物理粗化處理或化學(xué)粗化處理。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的濾波器腔體的制備方法，其特征在于，金屬粒子為銀粒子、銅粒子或鎳粒子；

金屬粒子的尺寸小于20μm；

涂覆為噴涂或者浸涂，涂層的厚度小于金屬粒子的尺寸1-2μm；

經(jīng)過粗化處理的坯體表面粗糙度為1-2μm。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的濾波器腔體的制備方法，其特征在于，步驟(3)中，表面金屬化工藝為：首先以涂層中的金屬粒子為催化劑，通過化學(xué)鍍的方法在腔體表面沉浸一層第一金屬層，然后經(jīng)過電鍍的方法在腔體表面覆蓋一層或多層第二金屬層。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的濾波器腔體的制備方法，其特征在于，第一金屬層與第二金屬層為銀、金、鋅、銅、錫、鎳或鉻層。