[發明專利]一種真空滅弧室觸頭、真空滅弧室及真空斷路器

在審

• 申請號: 202010066151.2
• 申請日: 2020-01-20
• 公開（公告）號: CN111261447A
• 公開（公告）日: 2020-06-09
• 發明（設計）人: 劉衛榮;常新
• 申請（專利權）人: 北京京東方真空電器有限責任公司
• 主分類號: H01H33/02
• 分類號: H01H33/02;H01H33/04;H01H33/18;H01H33/664
• 代理公司: 北京維正專利代理有限公司 11508
• 代理人: 侯巍巍

1.一種真空滅弧室觸頭，其特征在于：包括觸頭片、第一觸頭杯和第二觸頭杯，所述的第一觸頭杯設置于所述的第二觸頭杯內，所述的第一觸頭杯至少有一個，所述的第一觸頭杯的一端與所述的第二觸頭杯連接，所述的第一觸頭杯的另一端與所述的觸頭片連接。

2.根據權利要求1所述的一種真空滅弧室觸頭，其特征在于：所述的觸頭片與所述的第二觸頭杯連接。

3.根據權利要求2所述的一種真空滅弧室觸頭，其特征在于：所述的第一觸頭杯的上端面和所述的第二觸頭杯的上端面處于同一平面。

4.根據權利要求3所述的一種真空滅弧室觸頭，其特征在于：還包括聚磁環，所述的聚磁環設置在所述的第一觸頭杯內。

5.根據權利要求4所述的一種真空滅弧室觸頭，其特征在于：還包括加強筋，所述的加強筋設置在所述的第二觸頭杯內。

6.根據權利要求5所述的一種真空滅弧室觸頭，其特征在于：第一觸頭杯為圓柱狀或馬蹄狀或其它能形成縱向磁場的線圈。

7.根據權利要求6所述的一種真空滅弧室觸頭，其特征在于：所述的第一觸頭杯沿所述的第二觸頭杯的幾何中心呈圓周陣列設置。

8.根據權利要求7所述的一種真空滅弧室觸頭，其特征在于：所述的第二觸頭杯的杯壁開有斜槽。

9.根據權利要求8所述的一種真空滅弧室觸頭，其特征在于：所述的第一觸頭杯的杯壁開有斜槽。

10.一種真空滅弧室，包括第一導電桿、第二導電桿、第一端蓋、第二端蓋、第一端部均壓環、第二端部均壓環、絕緣殼、主屏蔽罩、波紋管和波紋管屏蔽罩，其特征在于：包括如權利要求1-9任一真空滅弧室觸頭，觸頭有兩個，第一導電桿與第一觸頭連接，第二導電桿與第二觸頭連接，第一導電桿與第一端蓋連接，第一端蓋與第一均壓環連接，第一均壓環與絕緣殼連接，第二導電桿與波紋管屏蔽罩連接，波紋管屏蔽罩與波紋管一端連接，波紋管另一端與第二端蓋連接，第二端蓋與第二端部均壓環連接，第二端部均壓環與絕緣殼一端連接。

11.根據權利要求10所述的一種真空滅弧室，其特征在于：還包括導向套和導向套定位環，所述導向套設置在第一導電桿與波紋管之間，所述的導向套定位環與第一端蓋連接在一起并壓住所述的導向套。

12.一種設有如權利要求10或11任一所述的真空滅弧室的真空斷路器。