[發明專利]氧化鈧穩定氧化鋯粉體的制備裝置

在審

• 申請號: 202010066088.2
• 申請日: 2020-01-20
• 公開（公告）號: CN111138188A
• 公開（公告）日: 2020-05-12
• 發明（設計）人: 李曉艷;付云楓;王瑋瑋;李諾;劉召波;付國燕
• 申請（專利權）人: 中國恩菲工程技術有限公司
• 主分類號: C04B35/48
• 分類號: C04B35/48;C04B35/626
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 白雪

1.一種氧化鈧穩定氧化鋯粉體的制備裝置，其特征在于，包括：

含鈧含鋯溶液供應單元(10)，用于供應含有鈧離子和鋯離子的鈧鋯混合溶液；

沉淀劑供應單元(20)，用于供應沉淀劑；

微波或超聲波反應器(30)，具有鈧鋯混合溶液進口、沉淀劑進口和沉淀物料出口，所述鈧鋯混合溶液進口與所述含鈧含鋯溶液供應單元(10)相連，所述沉淀劑進口與所述沉淀劑供應單元(20)相連，所述微波或超聲波反應器(30)用于使所述鈧鋯混合溶液在微波加熱或超聲波的條件下進行所述鈧離子和所述鋯離子的共沉淀反應；

過濾單元(40)，具有沉淀物料進口和沉淀膠體出口，所述沉淀物料進口與所述沉淀物料出口相連；

洗滌單元(50)，具有沉淀膠體進口、洗滌液進口及洗滌膠體出口，所述沉淀膠體進口與所述沉淀膠體出口相連；

干燥單元(60)，具有洗滌膠體進口和干料出口，所述洗滌膠體進口與所述洗滌膠體出口相連；以及

煅燒單元(70)，具有干料進口，所述干料進口與所述干料出口相連，所述煅燒單元(70)用于對所述干燥單元(60)排出的干料進行煅燒以得到所述氧化鈧穩定氧化鋯粉體。

2.根據權利要求1所述的制備裝置，其特征在于，所述洗滌單元(50)包括第一洗滌單元(51)和第二洗滌單元(52)，所述第一洗滌單元(51)上設置有所述沉淀膠體進口和第一洗滌液進口，所述第二洗滌單元(52)上設置有所述洗滌膠體出口和第二洗滌液進口，所述第一洗滌單元(51)和所述第二洗滌單元(52)串聯設置，所述制備裝置還包括：

供水單元(80)，與所述第一洗滌液進口相連；

酒精供應單元(90)，與所述第二洗滌液進口相連。

3.根據權利要求1所述的制備裝置，其特征在于，所述干燥單元(60)為冷凍干燥機。

4.根據權利要求1所述的制備裝置，其特征在于，所述過濾單元(40)為離心機或壓濾機。

5.根據權利要求1至4中任一項所述的制備裝置，其特征在于，所述含鈧含鋯溶液供應單元(10)包括：

含鈧溶液供應單元(11)，用于供應氯化鈧或硝酸鈧的水溶液；

含鋯溶液供應單元(12)，用于供應氯化鋯、硝酸鋯、氧氯化鋯或硝酸氧鋯的水溶液；以及

混合單元(13)，分別與所述含鈧溶液供應單元(11)和所述含鋯溶液供應單元(12)相連，用于將二者供應的溶液混合形成所述鈧鋯混合溶液，且所述混合單元(13)的出口與所述鈧鋯混合溶液進口相連。

6.根據權利要求5所述的制備裝置，其特征在于，所述制備裝置還包括pH檢測單元，所述pH檢測單元用于檢測所述微波或超聲波反應器(30)中反應體系的pH值。

7.根據權利要求6所述的制備裝置，其特征在于，所述制備裝置還包括沉淀劑流量控制計，所述沉淀劑流量控制計設置在所述沉淀劑進口與所述沉淀劑供應單元(20)相連的管路上，且所述沉淀劑流量控制計用以根據所述pH檢測單元的檢測結果調整沉淀劑流量以維持所述反應體系的pH值在7～11。

8.根據權利要求1至4中任一項所述的制備裝置，其特征在于，所述沉淀劑供應單元(20)用于供應氫氧化鈉溶液、碳酸氫銨溶液或氨水作為所述沉淀劑。

9.根據權利要求1至4中任一項所述的制備裝置，其特征在于，所述微波或超聲波反應器(30)中還設置有攪拌裝置。