[發(fā)明專利]光學透鏡及面光源模塊在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010065775.2 | 申請日: | 2020-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN111123586A | 公開(公告)日: | 2020-05-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 曾立偉;蔡卲瑜;陳俐伽 | 申請(專利權(quán))人: | 友達光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京市立康律師事務所 11805 | 代理人: | 梁揮;孟超 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學 透鏡 光源 模塊 | ||
1.一種光學透鏡,其特征在于,為沿一橫軸方向延伸且中段內(nèi)縮的一半柱狀體,包含:
一底面;
一第一光學面,凹設于該底面,且該第一光學面定義一內(nèi)凹空間;其中,定義垂直該橫軸方向的一中心軸,該中心軸垂直于該底面,且通過該第一光學面;
一第二光學面,與該底面相對設置,且該第二光學面連接該底面的相對兩側(cè)邊,而使該底面與該第二光學面共同形成該半柱狀體的外周面;其中,該第二光學面為突出于該底面上的曲面,且該底面與該第二光學面的中段形成一頸縮部,該頸縮部位于該中心軸上;以及
二第三光學面,于該橫軸方向上連接于該底面的相對兩側(cè)邊,且連接該第二光學面,使該二第三光學面成為該半柱狀體的兩端面;其中,各該第三光學面包含一第一穿透區(qū)以及一第二穿透區(qū),該第二穿透區(qū)的光線穿透率,小于該第一穿透區(qū)的光線穿透率,且沒有穿透該第二穿透區(qū)的光線,至少部分被反射或散射。
2.如權(quán)利要求1所述的光學透鏡,其特征在于,在該橫軸方向與該中心軸定義的一假想平面上,該頸縮部的投影具有一倒圓角。
3.如權(quán)利要求1所述的光學透鏡,其特征在于,該第一光學面配置為一入光面,該第二光學面配置為一反射面,其曲率配合第一光學面,使通過該第一光學面入光而落在該第二光學面的光線,被全反射而朝向該第三光學面行進。
4.如權(quán)利要求1所述的光學透鏡,其特征在于,以該橫軸方向與該中心軸定義一假想平面,該第一光學面于該假想平面上投影形成一第一線段,該第一線段相對于該橫軸方向旋轉(zhuǎn)180度可定義該第一光學面;該第二光學面于該假想平面上投影形成一第二線段,該第二線段相對于該橫軸方向旋轉(zhuǎn)180度可定義該第二光學面,并且形成該底面的相對兩側(cè)邊;以及該第三光學面于該假想平面上投影形成二第三線段,各該第三線段的兩端分別連接該第二線段以及該底面。
5.如權(quán)利要求4所述的光學透鏡,其特征在于,于該假想平面上,該第二線段對應于該頸縮部形成一下凹段且具有一倒圓角,該倒圓角與該第一線段的頂點相對。
6.如權(quán)利要求1所述的光學透鏡,其特征在于,該第三光學面的一整體光線穿透率為大于80%。
7.如權(quán)利要求6所述的光學透鏡,其特征在于,該第二穿透區(qū)的該穿透率為56%~96%。
8.如權(quán)利要求7所述的光學透鏡,其特征在于,該第二穿透區(qū)通過表面霧化處理、鍍膜或貼膜設置。
9.如權(quán)利要求7所述的光學透鏡,其特征在于,在該表面霧化處理中,該第二穿透區(qū)的表面粗糙度為中心線平均粗糙度介于0.28μm~0.8μm之間。
10.如權(quán)利要求7所述的光學透鏡,其特征在于,在該表面霧化處理中,該第二穿透區(qū)的霧度介于19%~76%之間。
11.如權(quán)利要求1所述的光學透鏡,其特征在于,該第一穿透區(qū)位于該第三光學面的下半部,該第二穿透區(qū)位于該第三光學面的上半部。
12.如權(quán)利要求11所述的光學透鏡,其特征在于,該第一穿透區(qū)與該第二穿透區(qū)的邊界設置為一鋸齒狀。
13.如權(quán)利要求1所述的光學透鏡,其特征在于,該第一穿透區(qū)為一半圓形,其圓心落在該橫軸方向上,該第二穿透區(qū)為半圓環(huán)形,環(huán)繞于第一穿透區(qū)的圓周邊界。
14.如權(quán)利要求1所述的光學透鏡,其特征在于,該第二穿透區(qū)位于該第一穿透區(qū)中而被該第一穿透區(qū)包圍。
15.如權(quán)利要求14所述的光學透鏡,其特征在于,該第二穿透區(qū)為圓形,且該第二穿透區(qū)位于該第一穿透區(qū)的形心上。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





