[發(fā)明專利]一種背光源及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010065722.0 | 申請日: | 2020-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN111221180B | 公開(公告)日: | 2022-05-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郝瑞軍;連龍;石天雷;唐烏力吉白爾;李岳峰;趙忠平;王曉杰;寧偉;郭飛翔;張學(xué)峰;胡海芳;吳永凱;孫樂 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京鼎佳達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 張小勇;劉鐵生 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 背光源 顯示裝置 | ||
1.一種背光源,其特征在于,包括:
背板,所述背板形成有容置槽;
導(dǎo)光板,所述導(dǎo)光板的第一側(cè)面形成有容納凹槽;
光源,至少部分所述光源設(shè)置于所述容納凹槽內(nèi),所述光源與所述容納凹槽卡接;
其中,所述導(dǎo)光板與所述光源均設(shè)置于所述容置槽內(nèi);
還包括光學(xué)膜材,所述導(dǎo)光板背離底板的一側(cè)為出光面,所述光學(xué)膜材疊設(shè)于所述出光面,所述出光面的邊緣設(shè)置有至少一個定位柱,所述光學(xué)膜材的邊緣形成有至少一個配合缺口,所述定位柱卡接于所述配合缺口內(nèi);
所述出光面與所述第一側(cè)面相連接的邊沿為第一邊沿,所述定位柱均設(shè)置于所述第一邊沿;
所述定位柱的數(shù)量為多個,多個所述定位柱依次沿所述第一邊沿設(shè)置,多個所述定位柱與其所對應(yīng)的所述配合缺口之間形成有配合間隙,其中一個所述定位柱對應(yīng)所述第一邊沿的中心設(shè)置,其余所述定位柱所對應(yīng)的配合間隙大于對應(yīng)中心設(shè)置的所述定位柱所對應(yīng)的配合間隙;
所述背板包括底板和多個側(cè)壁,多個所述側(cè)壁沿所述底板的邊沿設(shè)置,多個所述側(cè)壁與所述底板形成所述容置槽,多個所述側(cè)壁中包括第四側(cè)壁和與所述第四側(cè)壁相鄰的第一側(cè)壁和第三側(cè)壁,所述第一側(cè)壁與所述第一側(cè)面相對設(shè)置,所述第四側(cè)壁與所述第一側(cè)壁、所述第三側(cè)壁以及所述底板可拆卸連接;
所述光源包括電路板和至少一個發(fā)光元件,至少一個所述發(fā)光元件沿所述電路板的長度方向設(shè)置于所述電路板上;
所述電路板還包括一延伸部,所述第一側(cè)壁上設(shè)置有避讓開口,所述延伸部可穿設(shè)于所述避讓開口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光源,其特征在于,
所述容納凹槽包括第一凹槽和第二凹槽,所述第一凹槽設(shè)置于所述第一側(cè)面,所述第二凹槽設(shè)置于所述第一凹槽的槽底,至少部分所述發(fā)光元件設(shè)置于所述第二凹槽,至少部分所述電路板設(shè)置于所述第一凹槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的背光源,其特征在于,
所述第二凹槽為沿所述發(fā)光元件排布方向延伸的長條狀凹槽,以容納所有所述發(fā)光元件;或
所述第二凹槽包括沿所述發(fā)光元件排布方向設(shè)置的多個子凹槽,每個所述子凹槽容納至少一個所述發(fā)光元件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光源,其特征在于,
所述定位柱為棱柱體,所述配合缺口的形狀與所述定位柱相適配。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光源,其特征在于,
還包括光學(xué)膜材,所述光學(xué)膜材疊設(shè)于所述導(dǎo)光板背離所述底板的一側(cè);
所述第一側(cè)壁背離所述底板一端形成有向所述容置槽延伸的彎折側(cè)壁,部分所述光學(xué)膜材設(shè)置于所述彎折側(cè)壁與所述導(dǎo)光板之間;
所述彎折側(cè)壁遠離所述第一側(cè)壁的一端形成有向所述底板延伸的定位側(cè)壁,所述定位側(cè)壁延伸至所述光學(xué)膜材背離所述導(dǎo)光板的一側(cè)。
6.一種顯示裝置,其特征在于,包括:
如權(quán)利要求1至5任一項所述的背光源。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





