[發明專利]光源組件有效
| 申請號: | 202010065389.3 | 申請日: | 2020-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN111468825B | 公開(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發明(設計)人: | 大森雅樹;村山隆史;出島范宏 | 申請(專利權)人: | 日亞化學工業株式會社 |
| 主分類號: | H01S5/00 | 分類號: | H01S5/00;H01S5/40 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 張勁松 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光源 組件 | ||
本發明提供一種光源組件,其為適用于空間光束耦合的新型的光源組件。本發明的光源組件(100)具備:封裝體(10),其包括具有射出激光的發射極區域(E)的LD(激光二極管)(12)及窗部件(14);第一透鏡系統(20),其接收透過窗部件(14)的激光,在像面(22)形成發射極區域的像(虛擬光源)(E’);第二透鏡系統(30),其將通過像面的激光轉換成準直光束(B)或會聚光束并射出。
技術領域
本發明涉及一種光源組件。
背景技術
使用高輸出高亮度的激光束對各種材料進行切割、打孔、作標記等加工、或者對金屬材料進行焊接。目前,這種激光加工中使用的二氧化碳激光裝置及YAG固態激光裝置的一部分正在被能量轉換效率高的光纖激光裝置所代替。光纖激光裝置的激發光源使用半導體激光二極管(以下,簡稱為LD)。近年來,隨著LD的高輸出化,開發了LD不用作激發光源而是用作直接照射材料進行加工的激光束的光源的技術。這種技術被稱為直接二極管激光(DDL)技術。
專利文獻1公開了通過將從多個LD分別射出的多個激光束進行耦合(combine)來增大光輸出的激光光源的一例。多個激光束的耦合被稱為“空間光束耦合”,能夠用于提高例如光纖激光裝置的激發光源及DDL裝置等的光輸出。
現有技術文獻
專利文獻
專利文獻1:美國專利7733932號說明書
發明內容
發明要解決的問題
本發明提供一種適用于空間光束耦合的可靠性更高的激光光源及具備這種激光光源的激光加工裝置。
用于解決問題的技術方案
在非限制性示例性實施方式中,本發明的光源組件具備:半導體激光器封裝體,其被密封,并包括具有射出激光的發射極區域的激光二極管和透過所述激光的窗部件;第一透鏡系統,其接收透過所述窗部件的所述激光,在像面形成所述發射極區域的像;第二透鏡系統,其將通過所述像面后的所述激光轉換成準直光束或會聚光束并射出。
發明效果
本發明的實施方式能夠提供適用于空間光束耦合的新型的光源組件。
附圖說明
圖1A是示意性表示使從處于芯片狀態的LD射出的激光準直并輸出的現有光源組件100P的結構例的俯視圖。
圖1B是圖1A所示的光源組件100P的結構例的側面圖。
圖2是表示LD12的基本結構的一例的立體圖。
圖3A是表示使從收納于封裝體10的LD12射出的激光準直并輸出的光源組件100Q的結構例的與XZ面平行的示意剖面圖。
圖3B是圖3A所示的光源組件100Q的與YZ面平行的示意剖面圖。
圖4是表示本實施方式的光源組件100的基本結構例的圖。
圖5是放大表示光源組件100的主要部分的圖。
圖6是表示第一透鏡系統20包括物鏡系統24及成像透鏡系統26的形態的圖。
圖7A是從XZ面的法線方向觀察本實施方式的激光光源模塊200的示意俯視圖。
圖7B是從YZ面的法線方向觀察本實施方式的激光光源模塊200的示意側面圖。
圖7C是從XY面的法線方向觀察本實施方式的激光光源模塊200的示意正面圖。
圖8是示意性表示具備9個光源組件100的其它結構例的立體圖。
圖9A是表示光學系統160的結構例的圖。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日亞化學工業株式會社,未經日亞化學工業株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010065389.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





