[發明專利]DFDI儀器多普勒干涉條紋對比度分析方法有效
| 申請號： | 202010065235.4 | 申請日： | 2020-01-20 |
| 公開（公告）號： | CN111238779B | 公開（公告）日： | 2021-07-13 |
| 發明（設計）人： | 吳銀花;魏儒義;吳慎將;聶亮;趙保銀;張發強 | 申請（專利權）人： | 西安工業大學 |
| 主分類號： | G01M11/02 | 分類號： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 西安新思維專利商標事務所有限公司 61114 | 代理人： | 黃秦芳 |
| 地址： | 710032 陜*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | dfdi 儀器 多普勒 干涉 條紋 對比度 分析 方法 | ||
1.DFDI儀器多普勒干涉條紋對比度分析方法，其特征在于：方法步驟為：
步驟1)：根據光程差d和光柵分辨率gr確定中間參數g1，其中Δk0由gr決定，即在吸收線中心波長λa處Δk0＝1/(λa·gr)；
步驟2)：根據光程差d，光柵分辨率gr，在吸收線中心波長λa處Δk0＝1/(λa·gr)，以及恒星吸收線波長半高寬Δλa，確定中間參數g2；ΔKa為吸收線波數半高寬；
步驟3)：根據光柵分辨率gr，恒星吸收線的吸收強度A，吸收線波長半高寬Δλa，以及步驟1)獲取的中間參數g1和步驟2)獲取的中間參數g2，建立DFDI儀器多普勒干涉條紋對比度分析模型；
步驟4)：根據應用，需求4個參數：光程差d、光柵分辨率gr、吸收線的吸收強度A、吸收線波長半高寬Δλa，均設定為固定參數值，利用步驟3)建立的干涉條紋對比度分析模型，獲取當前參數值組合下對應多普勒干涉條紋對比度；
步驟5)：根據應用，需求4個參數光程差d、光柵分辨率gr、吸收線的吸收強度A、吸收線波長半高寬Δλa中，任意一個參數設定為一定取值范圍，其余三個參數設定為固定參數值，利用步驟3)建立的干涉條紋對比度分析模型，獲取該任意一個參數在其取值范圍內對應的多普勒干涉條紋對比度一維分布；
步驟6)：根據應用，需求4個參數光程差d、光柵分辨率gr、吸收線的吸收強度A、吸收線波長半高寬Δλa中，任意兩個參數設定為一定取值范圍，其余兩個參數設定為固定參數值，利用步驟3)建立的干涉條紋對比度分析模型，獲取該任意兩個參數在其取值范圍內對應的多普勒干涉條紋對比度二維分布。
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