[發明專利]一種基于四噻吩并吡咯的免摻雜空穴傳輸材料及其合成方法和應用有效
| 申請號: | 202010063943.4 | 申請日: | 2020-01-20 |
| 公開(公告)號: | CN111171046B | 公開(公告)日: | 2023-03-31 |
| 發明(設計)人: | 蔡鵬;張鈺;曹紹菊;孔鵬華;楊紅佳;韋靜蘭 | 申請(專利權)人: | 淮陰工學院 |
| 主分類號: | C07D495/22 | 分類號: | C07D495/22;H10K30/20;H10K85/60 |
| 代理公司: | 淮安市科文知識產權事務所 32223 | 代理人: | 謝觀素 |
| 地址: | 223005 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 噻吩 吡咯 摻雜 空穴 傳輸 材料 及其 合成 方法 應用 | ||
1.一種基于四噻吩并吡咯的免摻雜空穴傳輸材料的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
在氬氣保護的條件下,將式(1)化合物、式(2)化合物、鈀催化劑、有機磷配體和堿溶解于無水有機溶劑中,進行反應,反應結束產物經柱層析提純得到式(3)化合物,即基于四噻吩并吡咯的免摻雜空穴傳輸材料,反應方程式如下所示:
所述的鈀催化劑為四三苯基磷鈀、三(二亞芐基丙酮)二鈀、[1,1'-雙(二苯基膦基)二茂鐵]二氯化鈀或醋酸鈀中的一種或兩種以上混合;
所述的有機磷配體為三苯基膦(PPh3)、三(鄰甲基苯基)磷(P(o-tolyl)3)、三(間甲基苯基)磷(P(m-tolyl)3)、三(對甲基苯基)磷(P(p-tolyl)3)、三環己基膦(P(Cy)3)、正丁基二(1-金剛烷基)膦(P(adamantyl)2(nBu))、三叔丁基膦(P(t-But)3)、1,1'-雙(二苯基膦)二茂鐵(dppf)或2-雙環己基膦-2',6'-二甲氧基聯苯(SPhos)的一種或兩種以上混合。
2.根據權利要求1所述的基于四噻吩并吡咯的免摻雜空穴傳輸材料的制備方法,其特征在于:所述式(1)化合物、式(2)化合物、鈀催化劑、有機磷配體以及堿的摩爾比1:2~5:0.01~0.1:0.02~0.2:2~8。
3.根據權利要求1所述的基于四噻吩并吡咯的免摻雜空穴傳輸材料的制備方法,其特征在于:所述的堿為碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸銫、醋酸鈉或醋酸鉀中的一種或兩種以上混合。
4.根據權利要求1所述的基于四噻吩并吡咯的免摻雜空穴傳輸材料的制備方法,其特征在于:所述的無水有機溶劑為無水二甲基亞砜、無水N,N-二甲基甲酰胺、無水甲苯和無水四氫呋喃中的一種或兩種以上混合。
5.根據權利要求1所述的基于四噻吩并吡咯的免摻雜空穴傳輸材料的制備方法,其特征在于:所述的反應條件是:在溫度60~150℃反應8~60h。
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