[發明專利]一種礦石多重粉碎設備在審
| 申請號: | 202010061339.8 | 申請日: | 2020-01-19 |
| 公開(公告)號: | CN111085289A | 公開(公告)日: | 2020-05-01 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 廣州利何機械科技有限公司 |
| 主分類號: | B02C1/04 | 分類號: | B02C1/04;B02C4/08;B02C23/16;B03C3/017;B01D47/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 510700 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 礦石 多重 粉碎 設備 | ||
1.一種礦石多重粉碎設備,包括外殼,其特征在于:所述外殼內設置有開口向上的進料腔,所述進料腔左側設置有儲水箱,所述儲水箱內設置有儲水腔,所述儲水腔下方設置有第一粉碎腔,所述第一粉碎腔后側壁轉動連接有前后延伸設置的一號軸,所述一號軸外周固定連接有轉桿,所述轉桿右端轉動連接有滑桿,所述滑桿右端轉動連接有傳動塊,所述傳動塊內轉動連接有固定軸,所述固定軸與所述第一粉碎腔后側壁固定連接,所述傳動塊右側端面固定安裝有左粉碎板,所述第一粉碎腔右側壁固定連接有右粉碎板,所述第一粉碎腔下方設置有處理腔,所述處理腔內設置有篩選箱,所述篩選箱內設置有對礦石顆粒進行篩選的礦石篩選機構,所述篩選箱下端固定連接有粉塵處理箱,所述粉塵處理箱內設置有粉塵處理腔,所述粉塵處理箱左側壁固定連接有對所述粉塵處理腔內的粉塵進行吸附的粉塵吸附裝置,所述篩選箱右側設置有對未通過篩選的礦石進行再次粉碎的二次粉碎機構,所述第一粉碎腔后側設置有傳動腔,所述傳動腔內設置有為本發明工作提供動力的傳動機構。
2.根據權利要求1所述的一種礦石多重粉碎設備,其特征在于:所述礦石篩選機構包括設置于所述篩選箱內的篩選腔,所述篩選腔左側壁開設有左滑槽,所述篩選腔右側壁開設有右滑槽,所述左滑槽與所述右滑槽之間安裝有可以滑動的固定板,所述固定板內固定安裝有篩板,所述篩選腔左側壁固定安裝有左支撐塊,所述左支撐塊上端面與所述固定板下端面之間固定安裝有一號彈簧,所述篩選腔右側壁固定安裝有右支撐塊,所述右支撐塊上端面與所述固定板下端面之間固定安裝有二號彈簧,所述篩選腔后側壁轉動連接有前后延伸設置的二號軸,所述篩選腔內設置有與所述二號軸外周固定連接的凸輪,所述凸輪外周與所述固定板下端面滑動連接。
3.根據權利要求1所述的一種礦石多重粉碎設備,其特征在于:所述粉塵吸附裝置包括固定于所述處理腔左側壁的粉塵收集箱,所述粉塵收集箱內設置有粉塵收集腔,所述粉塵收集腔左側設置有過度腔 ,所述粉塵收集腔與叔叔過度腔 聯通,所述過度腔 與所述粉塵處理腔聯通,所述過度腔 右端固定設置有防護板,所述過度腔 內固定連接有吸塵風扇,所述粉塵收集腔上側壁固設有放電板,所述粉塵收集腔下側壁固設有集塵板,所述粉塵收集腔左側壁開設有通風孔,所述通風孔內固定安裝有過濾芯。
4.根據權利要求1所述的一種礦石多重粉碎設備,其特征在于:。
5.所述二次粉碎機構包括固設于所述處理腔內的二次粉碎箱,所述二次粉碎箱內設置有二次粉碎腔,所述二次粉碎腔后側壁轉動連接有前后延伸設置的三號軸,所述三號軸后端向后延伸至所述傳動腔內,所述二次粉碎腔內設置有與所述三號軸外周固定連接的右粉碎輪,所述三號軸左側設置有與所述二次粉碎腔后側壁轉動連接且前后延伸設置的四號軸,所述四號軸后端延伸至所述傳動腔內,所述二次粉碎腔內設置有與所述四號軸外周固定連接的左粉碎輪。
6.根據權利要求1所述的一種礦石多重粉碎設備,其特征在于:所述傳動機構包括固設于所述傳動腔后側壁上的電機支撐板,所述電機支撐板上側端面固定安裝有電機,所述電機前側固定安裝有動力齒輪,所述一號軸外周固定連接的一號齒輪,所述一號齒輪與所述動力齒輪嚙合,所述一號齒輪后側設置有與所述一號軸外周固定連接的一號皮帶輪,所述二號軸外周固定連接有二號皮帶輪,所述二號皮帶輪與所述一號皮帶輪之間安裝有一號皮帶,所述二號皮帶輪前側設置有與所述二號軸外周固定連接的三號皮帶輪,所述傳動腔內設置有與所述三號軸外周固定連接的四號皮帶輪,所述四號皮帶輪與所述三號皮帶輪之間安裝有二號皮帶,所述四號皮帶輪后側設置有與所述三號軸外周固定連接的二號齒輪,所述四號軸后端固定安裝與三號齒輪,所述三號齒輪與所述二號齒輪嚙合。
7.根據權利要求1所述的一種礦石多重粉碎設備,其特征在于:所述儲水腔內設置有吸水泵,所述吸水泵上端固定連接有出水管,所述出水管一端固定安裝有一號噴頭另有一端固定安裝有二號噴頭,所述儲水腔左側壁固定連接有進水管。
8.根據權利要求1所述的一種礦石多重粉碎設備,其特征在于:所述進料腔下側壁設置有第一傳動帶,所述處理腔右側壁開設有出料孔,所述處理腔下側壁設置有第二傳送帶,所述第二傳送帶經過所述出料孔延伸至所述外殼外。
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