[發明專利]調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的方法及系統

有效

• 申請號: 202010060711.3
• 申請日: 2020-01-19
• 公開（公告）號: CN111223740B
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發明（設計）人: 歐陽證;焦斌;卜杰洵;劉新瑋
• 申請（專利權）人: 清華大學;北京清譜科技有限公司
• 主分類號: H01J49/00
• 分類號: H01J49/00
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 王艷斌

1.一種調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的方法，其特征在于，包括以下步驟：

預設非連續進樣接口的開啟時長，將待測樣品離子引入離子阱；

對所述待測樣品離子進行初始質譜分析，保存并分析各項初始參數，輸出初始質譜圖信息；

分析進入所述離子阱內并被存儲的離子數量，并改變所述各項初始參數調控所述離子數量；

通過預實驗確定所述各項初始參數與所述離子數量的關系模型，并基于所述關系模型對調控后得到的譜峰強度進行增益補償，確定各項最優初始參數；

根據所述各項最優初始參數進行質譜分析，輸出譜峰強度與樣品濃度相對應的質譜圖。

2.根據權利要求1所述的調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的方法，其特征在于，所述離子阱為采用非連續進樣接口的離子阱質譜儀中的質量分析器，進樣時采取固定非連續進樣口開啟時間的方式，控制每次進樣的變化。

3.根據權利要求1所述的調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的方法，其特征在于，所述對所述待測樣品離子進行初始質譜分析，保存并分析各項初始參數，輸出初始質譜圖信息，進一步包括：

獲取質譜儀的各項參數特征；

根據所述各項參數特征預設相應的初始值，根據所述初始值對所述待測樣品離子進行初始質譜分析；

記錄初始質譜分析的所述各項初始參數和所述初始質譜圖信息，并分析所述各項初始參數的調節方向。

4.根據權利要求1所述的調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的方法，其特征在于，所述改變所述各項初始參數調控所述離子數量包括兩種調節方式，其中，

基于所述離子數量，通過改變離子阱上的射頻電壓的開啟時間，完成對所述離子數量的調控；

基于所述離子數量，通過改變門電極上的直流電壓的幅值，完成對所述離子數量的調控。

5.根據權利要求4所述的調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的方法，其特征在于，獨立或結合使用所述兩種調節方式，且執行次數至少一次。

6.根據權利要求1所述的調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的方法，其特征在于，在進行增益補償前，需使用多個標準溶液建立并驗證所述關系模型的有效性，若有效，則執行增益補償處理，若無效，則重新設計預實驗確定新的關系模型，其中，所述標準溶液為多個濃度梯度的溶液。

7.一種調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的系統，其特征在于，包括：

引入模塊，用于預設非連續進樣接口的開啟時長，將待測樣品離子引入離子阱；

初始質譜分析模塊，用于對所述待測樣品離子進行初始質譜分析，保存并分析各項初始參數，輸出初始質譜圖信息；

調控模塊，用于分析進入所述離子阱內并被存儲的離子數量，并改變所述各項初始參數調控所述離子數量；

增益補償模塊，用于通過預實驗確定所述各項初始參數與所述離子數量的關系模型，并基于所述關系模型對調控后得到的譜峰強度進行增益補償，確定各項最優初始參數；

輸出模塊，用于根據所述各項最優初始參數進行質譜分析，輸出譜峰強度與樣品濃度相對應的質譜圖。

8.根據權利要求7所述的調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的系統，其特征在于，所述初始質譜分析模塊包括：

獲取單元，用于獲取質譜儀的各項參數特征；

初始質譜分析單元，用于根據所述各項參數特征預設相應的初始值，根據所述初始值對所述待測樣品離子進行初始質譜分析；

記錄分析單元，用于記錄初始質譜分析的所述各項初始參數和所述初始質譜圖信息，并分析所述各項初始參數的調節方向。

9.根據權利要求7所述的調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的系統，其特征在于，所述調控模塊中改變所述各項初始參數調控所述離子數量包括兩種調節方式，其中，

基于所述離子數量，通過改變離子阱上的射頻電壓的開啟時間，完成對所述離子數量的調控；

基于所述離子數量，通過改變門電極上的直流電壓的幅值，完成對所述離子數量的調控。

10.根據權利要求9所述的調控質譜儀離子阱質量分析器中離子數量的系統，其特征在于，獨立或結合使用所述兩種調節方式，且執行次數至少一次。