[發明專利]三元層狀碳化物Mo2

在審

• 申請號: 202010060540.4
• 申請日: 2020-01-19
• 公開（公告）號: CN111229272A
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 任杰;宗暉;郁可;朱自強
• 申請（專利權）人: 華東師范大學
• 主分類號: B01J27/22
• 分類號: B01J27/22;C25B11/06;C25B1/04
• 代理公司: 上海德禾翰通律師事務所 31319
• 代理人: 陳艷娟

1.一種三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C復合花狀MoS₂納米顆粒復合材料的制備方法，其特征在于，該方法包括以下具體步驟：

(1)將鉬粉與石墨按2:1的摩爾比稱量，并球磨12小時使其充分混合；在氬氣氣氛下以5℃～10℃每分鐘升溫速率升溫至1000±100℃，并在1000±100℃下保持12小時左右，得到燒結的塊狀Mo₂C；

(2)將上述塊狀Mo₂C研磨成粉末狀，與液態金屬鎵以1:8摩爾比例充分混合后，抽真空并密封，以8℃～10℃每分鐘的升溫速率升至850℃±30℃并保持48小時，自然冷卻后，壓碎，在850℃±30℃下保持24小時，冷卻取出，得到三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C；

(3)將得到的三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C浸泡在37～45wt％的鹽酸溶液中45-50小時，然后用水洗滌，真空干燥，得到黑色三元納米層狀Mo₂Ga₂C粉末；

(4)使用水熱合成法，取0.45-0.55g二水合鉬酸鈉和0.8g硫脲溶于60ml的去離子水中，然后調節pH值，磁力攪拌，得到溶液I；取步驟(3)制備的Mo₂Ga₂C粉末0.5-0.8g緩慢浸入上述溶液I中，磁力攪拌充分混合，得到分散液；將分散液轉移至反應釜中，在200℃下加熱24小時；反應完后將杯壁的黑色物質收集起來用去離子水反復離心洗滌，將獲得的材料真空干燥；在氬氣氛圍中550℃下60-80分鐘退火，得到所述三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C復合花狀MoS₂納米顆粒復合材料。

2.一種如權利要求1所述方法制得的三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C復合花狀MoS₂納米顆粒復合材料。

3.如權利要求2所述的三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C復合花狀MoS₂納米顆粒復合材料，其特征在于，三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C粉末為六方晶系；花狀MoS₂納米顆粒為六方晶系；花狀MoS₂納米顆粒作為復合物，三元層狀Mo₂Ga₂C粉末作為搭載基底，形成穩定結構；所述MoS₂納米顆粒與所述三元層狀Mo₂Ga₂C有充分牢固的點面接觸。

4.如權利要求3所述的三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C復合花狀MoS₂納米顆粒復合材料，其特征在于，所述三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C的長約為5μm，寬約為3μm，為一種六方晶相的層狀物骨架材料，其中兩個Ga層以簡單的六角形排列堆疊在Mo₂C層之間；所述納米花狀MoS₂顆粒直徑為200nm，均勻分布在層狀Mo₂Ga₂C的表面。

5.一種如權利要求2所述三元層狀碳化物Mo₂Ga₂C復合花狀MoS₂納米顆粒復合材料在作為電催化水裂解陰極材料中的應用。